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학위논문 상세정보

플라즈마 공정 응용의 모델링과 전산모사 : ICP 소스를 이용한 멀티스케일 플라즈마 에칭공정과 플라즈마 표시기 셀

Modeling and simulation for plasma processing applications : multiscale plasma etching process using inductively coupled plasma source and plasma display panel cell


김태원 (中央大學校 大學院 電子工學科 半導體工學 專攻 국내박사)
초록

본 학위 논문에서는 플라즈마를 응용한 공정을 모델링과 전산모사를 통해서 최적화하는 것에 주력하였다. 실제 적용한 플라즈마 응용 공정은 유도 결합 플라즈마 소스(Inductively Coupled Plasma Source)를 이용한 식각 공정과 플라즈마 표시기(Plasma Display Panel) 셀이다 플라즈마 식각 공정에서는 시간과 공간적으로 다른 스케일을 모듈별 접근방식을 이용해 플라즈마 발생에서부터 웨이퍼 표면에서의 식각 까지의 전(全) 공정을 통합적으로 모델링하여 시뮬레이션 할 수 있는 시뮬레이터를 개발하였다. 표면반응모듈...

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저자 김태원
학위수여기관 中央大學校 大學院
학위구분 국내박사
학과 電子工學科 半導體工學 專攻
발행년도 2003
총페이지 xiii, 153 p.
언어 eng
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T9222569&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원

DOI 인용 스타일