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학위논문 상세정보

RPCVD에 의해 증착된 Si₃N₄/SiO₂/SiON 박막들의 MMIC\\&OEIC 응용에 관한 연구

Study for the application of Si₃N₄/SiO₂/SiON films deposited by RPCVD to MMIC\\&OEIC


이종주 (한국과학기술원 전기및전자공학과 국내석사)
Abstract

Silicon nitride, silicon dioxide, and silicon oxynitride films are deposited using RPCVD, which is low temperature($\sim 250\,^\circ\!C$) deposition and has separate two chambers, i.e. plasma chamber and deposition chamber. So, the electronic damage is negligible. Stoichiometric $SiO_2$ and $Si_3N_4...

주제어

#RPCVD Si₃N₄ SiO₂ MIM capacitor Optical waveguide 화학기상증착 광도파로;

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저자 이종주
학위수여기관 한국과학기술원
학위구분 국내석사
학과 전기및전자공학과
지도교수 권영세,Kwon, Young-Se
발행년도 1997
총페이지 iii, 65 p.
키워드 RPCVD Si₃N₄ SiO₂ MIM capacitor Optical waveguide 화학기상증착 광도파로
언어 kor
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T10506668&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원
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