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학위논문 상세정보

라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 이용하는 포토레지스트에 관한 연구

(A) study on photoresist using concurrent radical and cationic polymerization


Park, Jong-Jin (한국과학기술원 신소재공학과 국내석사)
초록

다관능 아크릴레이트와 다관능 에폭시를 조합하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 이용하는 포토레지스트 형성에 관한 연구와 여기에 관련된 광화학 반응을 포토칼로리미터를 이용하여 고찰하였다. 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 이용하는 혼성계는 자외선을 사용하는 광미세가가공분야에서의 사용가능성을 보여주었으며 본실험에서 얻어진 결과는 다음과 같았다. 1) 광화학반응 포토칼로리미터를 이용하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 이용하는 혼성 포토레지스트계의 최적 처방을 만들 수 있었고 광화학반응이 일어나는 동안의 여러가지 효과(코팅 두께...

Abstract

The concurrent radical and cationic polymerization system was studied for a photoresist. This study illustrates an approach an to the formation of a hybrid resist by incorporating epoxy into acryl monomer or vinyl ether. The effects of photoinitiator concentration, monomer type, oxygen inhibition, a...

참고문헌 (0)

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저자 Park, Jong-Jin
학위수여기관 한국과학기술원
학위구분 국내석사
학과 신소재공학과
지도교수 Kim, Jin-Baek
발행년도 1995
총페이지 vii, 129 p.
언어 eng
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T10510976&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원

DOI 인용 스타일