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학위논문 상세정보

크롬電着層의 優先配向과 顯微鏡組織

Preferred orientations and microstructures of chromium electrodeposits


Park, Jeong-Real (한국과학기술원 재료공학과 국내석사)
초록

사-전트욕 표준야에서, 35-75℃의 욕온도범위와 25-200A/dm^2의 전류밀도범위에서, 동판 위에 크롬을 전착시켰다. 모든 크롬 전착층의 결정구조는 체심입방적이었다. 크롬 전착층의 우선배향(일명 집합조직) 은 <111>과 <211>이었고 전착조건에 따라 변했다. 일정한 전류밀도에서는 욕온도가 65℃ 까지 증가할수록 <111>과 <211> 우선배향은 강하게 나타났고 65℃ 이상에서 다시 약해 졌다. 일정한 욕온도에서는 전류밀도가 감소할수록 <111>과 <211>우선배향은 강하게 나타났다. 우선배향이 나타나는 전착조건에서는 전착층...

Abstract

Chromium was electrodeposited in the standard sargent bath under ranges of bath temperature from 35 to 75^\circC and current density from 25 to 200 A/dm^2. All the chromium deposits had the bcc structure, and some of them had <111> and/or <211> preferred orientations (or textures), whose degree of d...

주제어

#Electroplating Texture (Crystallography) Microstructure Chromium 전착 크롬 도금 우선 방위 미세 구조;

참고문헌 (0)

  1. 이 논문의 참고문헌 없음

이 논문을 인용한 문헌 (0)

  1. 이 논문을 인용한 문헌 없음
저자 Park, Jeong-Real
학위수여기관 한국과학기술원
학위구분 국내석사
학과 재료공학과
발행년도 1976
총페이지 [v], 61 p.
키워드 Electroplating Texture (Crystallography) Microstructure Chromium 전착 크롬 도금 우선 방위 미세 구조
언어 eng
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T10512959&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원
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