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학위논문 상세정보

원거리 플라즈마를 이용한 CVD(Chemical Vapor Deposition)에 관한 연구

The study on the plasma enhanced chemical vapor deposition(RPECVD)


전부일 (한국과학기술원 물리학과 국내석사)
Abstract

In this thesis I want to develope Copper chemical vapor deposition device with the aid of Remote plasma source. Remote plasma means that plasma region and CVD processing region is different region. In plasma region we can make radicals which assists CVD more effectively. To achieve this purpose I de...

주제어

#CVD(Chemical Vapor Deposition) Remote plasma Oxygen plasma 화학적 증착법 원거리 플라즈마 산소 플라즈마;

참고문헌 (0)

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이 논문을 인용한 문헌 (0)

  1. 이 논문을 인용한 문헌 없음
저자 전부일
학위수여기관 한국과학기술원
학위구분 국내석사
학과 물리학과
지도교수 장홍영,Chang, Hong-Young
발행년도 2000
총페이지 iv, 43 p.
키워드 CVD(Chemical Vapor Deposition) Remote plasma Oxygen plasma 화학적 증착법 원거리 플라즈마 산소 플라즈마
언어 kor
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T10513769&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원

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