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내플라즈마성 향상을 위한 중간층 제어 및 AD법에 의한 세라믹 코팅

Interlayer Control and Ceramic Coating by Aerosol Deposition Method for Improvement of Plasma Resistance


최주현 (서울산업대학교 산업대학원 재료공학과 국내석사)

초록
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최근 반도체 제조 공정에서 고밀도 플라즈마 공정이 도입이 확산되면서 기존에 비해 우수한 내플라즈마 특성에 대한 요구 또한 증대 돼고 있다. 이러한 내플라즈마를 위해 코팅된 박막이 균일하게 코팅되지 않거나, 조직이 치밀하지 못하면 취약한 부분인 소모성 부품의 모서리(edge) 부분이나, 모재와 코팅막의 박리현상이 쉽게 일어난다. 때문에 코팅층이 깨지거나 박리되면서 다량의 Particle을 생성함으로써 생산수율에도 문제를 야기 시킨다. 따라서 고직접 회로패턴을 제조함으로 패턴불량의 70%이상을 야기 시키는 Particle을 제어함으로써 생산수율을 증대가 필요하다. 이를 위하여 최근 상온에서 고속으로 치밀한 세라믹 막 형성이 가능한 에어로졸 데포지션법(aerosol deposition method)은 상온에서 금속, 유리, ...

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Recently, the high plasma resistance in semiconductor manufacturing apparatus coated ceramic films is one of the hottest issues by requiring the high density plasma to realize high resolution pattern. Until now, the ceramics coating technology such as thermal spray coating method for plasma resistan...

주제어

#Aerosol Deposition Method Plasma Resistance Arc plasma Anodizing 

학위논문 정보

저자 최주현
학위수여기관 서울산업대학교 산업대학원
학위구분 국내석사
학과 재료공학과
지도교수 현창용
발행연도 2010
총페이지 iv, 59 p.
키워드 Aerosol Deposition Method Plasma Resistance Arc plasma Anodizing
언어 kor
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T12028054&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원
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