레이저 간섭 리소그래피와 열 나노 임프린트에 의해 제작된 표면 플라즈몬 바이오센서 Surface Plasmon biosensor fabricated by Laser Interference Lithography and Thermal Nano-imprint Lithography원문보기
주기적으로 잘 정돈된 나노 구조물은 디스플레이, 반도체, 바이오센서, 광 결정 등에 두루 적용할 수 있는 많은 가능성을 지니고 있다. 나노 구조물을 제작하기 위한 리소그래피 기법은 전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography, EBL), Focused Ion Beam 리소그래피(FIB), Nano-imprint 리소그래피(...
주기적으로 잘 정돈된 나노 구조물은 디스플레이, 반도체, 바이오센서, 광 결정 등에 두루 적용할 수 있는 많은 가능성을 지니고 있다. 나노 구조물을 제작하기 위한 리소그래피 기법은 전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography, EBL), Focused Ion Beam 리소그래피(FIB), Nano-imprint 리소그래피(NIL), 나노 구 리소그래피(Nano-sphere Lithography, NSP) 등이 있다. 이 중에서 레이저 간섭 리소그래피(Laser Interference Lithography, LIL)는 빠른 공정이 가능하며, 대면 적에 간단한 나노 구조물을 제작할 수 있어 공정 단가 절약에 장점은 가지고 있다. 본 연구에서는 351nm의 파장을 가지는 아르곤 레이저(Ar laser)를 광원으로 하는 Lloyd’s mirror interferometer 레이저 간섭 리소그래피 장치를 이용하여 수십 ~ 수백 nm 수준의 나노 구조물을 제작한다. 제작된 나노 구조물은 Metal coating 후 KOH Etchant를 사용하여, Si wafer(100) 표면 식각을 한다. Wet Etching 공정 시 공정 변수로, 첫째, Etching 온도를 80℃, 100℃, 130℃, 150℃, 170℃로 지정하였다. 둘째, Etching time은 각 온도에 따라 60sec, 80sec, 100sec,120sec 등으로 지정하고 표면 변화를 관찰하였다. 가장 잘 제작된 나노 구조물은 Thermal NIL stamp로 사용되며, Glass substrate로 전사된 패턴은 Novel metal 코팅을 통해, SPR 바이오센서로 사용 하였다.
주기적으로 잘 정돈된 나노 구조물은 디스플레이, 반도체, 바이오센서, 광 결정 등에 두루 적용할 수 있는 많은 가능성을 지니고 있다. 나노 구조물을 제작하기 위한 리소그래피 기법은 전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography, EBL), Focused Ion Beam 리소그래피(FIB), Nano-imprint 리소그래피(NIL), 나노 구 리소그래피(Nano-sphere Lithography, NSP) 등이 있다. 이 중에서 레이저 간섭 리소그래피(Laser Interference Lithography, LIL)는 빠른 공정이 가능하며, 대면 적에 간단한 나노 구조물을 제작할 수 있어 공정 단가 절약에 장점은 가지고 있다. 본 연구에서는 351nm의 파장을 가지는 아르곤 레이저(Ar laser)를 광원으로 하는 Lloyd’s mirror interferometer 레이저 간섭 리소그래피 장치를 이용하여 수십 ~ 수백 nm 수준의 나노 구조물을 제작한다. 제작된 나노 구조물은 Metal coating 후 KOH Etchant를 사용하여, Si wafer(100) 표면 식각을 한다. Wet Etching 공정 시 공정 변수로, 첫째, Etching 온도를 80℃, 100℃, 130℃, 150℃, 170℃로 지정하였다. 둘째, Etching time은 각 온도에 따라 60sec, 80sec, 100sec,120sec 등으로 지정하고 표면 변화를 관찰하였다. 가장 잘 제작된 나노 구조물은 Thermal NIL stamp로 사용되며, Glass substrate로 전사된 패턴은 Novel metal 코팅을 통해, SPR 바이오센서로 사용 하였다.
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