최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기최근 반도체 식각 공정이 십 수 나노미터 이하로 내려감에 따라서, 플라즈마를 이용한 미세 식각 공정에 관한 새로운 연구가 필요한 실정이다. 이러한 미세 플라즈마 제어에 관한 대안으로 원자층 식각에 관한 연구가 보고되었다 [1]. 하지만, 원자층 식각 공정에 관한 기초 이해가 부족한 실정이며, 실제 공정에 적용된 연구 결과는 매우 드물다. 본 연구는 서로 다른 막질에 대해 높은 선택비가 필요한 미세 공정에서 일반적 식각 방법으로는 선택비 확보에 한계가 있기에 이를 극복하기 위하여 원자층 식각을 적용하였다. 각 막질의 식각 특성이 다른 점을 이용해 고온에서 ...
저자 | 김재원 |
---|---|
학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전기공학과 |
지도교수 | 정진욱 |
발행연도 | 2015 |
총페이지 | 49 p. |
키워드 | 전기공학 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T13820530&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.