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Y2O3의 소결 및 플라즈마 식각특성에 관한 연구

A study on the sintering and plasma etching characteristics of Y2O3


김찬승 (전남대학교 지구시스템공학과 국내박사)

초록
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반도체 제조용 공정장비(CVD, Etch)는 다양한 플라즈마를 활용하는데 이들 장비에 사용되는 부품들은 내플라즈마 특성이 우수한 재료를 사용해야 한다. 현재까지는 알루미나(Al2O3) 소재가 주력으로 쓰이고 있지만 엄격한 공정관리, 수명 등의 이유로 내플라즈마성이 알루미나 소재에 비해 뛰어난 Y2O3 소재가 각광받고 있다. 하지만 난소결성과 고온소결성에 고가이다 보니 주로 알루미나 모재에 Y2O3을 코팅하는 방식으로 쓰이고는 있지만 ...

주제어

#Y2O3 소결 플라즈마 식각 

학위논문 정보

저자 김찬승
학위수여기관 전남대학교
학위구분 국내박사
학과 지구시스템공학과
지도교수 김명준
발행연도 2015
총페이지 109
키워드 Y2O3 소결 플라즈마 식각
언어 kor
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T13837403&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원
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