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NTIS 바로가기극 자외선 리소그래피는 미세 패턴 형성을 위한 차세대 리소그래피 기술로 주목받고 있다. 매우 짧은 파장을 사용하여 높은 해상력을 지니고 있으나, 기존의 리소그래피와는 달리 반사형 광학계를 사용함으로 인해 마스크 구조 및 방향에 따라 패턴 결과가 달라지는 마스크 3-D 효과를 지니고 있다. 해상력 향상을 위해 제안된 고 개구수 비균등 광학계는 기존의 극 자외선 리소그래피 광학계와는 달리 타원형의 마스크 개구수와 비등방 마스크 패턴을 지니고 있어, 마스크에서 입사각 분포, 방향에 따른 마스크 배율 변화를 갖고 있다. 이 두 가지 변화는 기존에 마스크 3-D 효과로 인한 수평/수직 패턴 크기 문제를 완화시켰으나, 휘어진 마스크 슬릿 내에서 ...
저자 | 김인선 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내박사 |
학과 | 응용물리학과 |
지도교수 | 오혜근 |
발행연도 | 2018 |
총페이지 | vii, 48 p. |
키워드 | 물리학광학 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14697983&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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