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NTIS 바로가기요업학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.27 no.2, 1990년, pp.219 - 225
김기열 (강원대학교 재료공학과) , 최돈복 (강원대학교 재료공학과) , 소명기 (강원대학교 재료공학과)
Silicon dioxide thin film has been grown by a chemical vapor deposition (CVD) technique using SiH4, and O2 gaseous mixture on a silicon substrate. The experimental results indicated that the deposition rate as a function of the input ratio (O2/SiH4) shows two regions, increasing region and decreas...
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