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NTIS 바로가기한국섬유공학회지 = Textile science and engineering, v.29 no.11, 1992년, pp.63 - 70
문수진 (서울대학교 섬유고분자공학과) , 주소영 (서울대학교 섬유고분자공학과) , 전병철 (수원대학교 고분자공학과) , 홍성일 (서울대학교 섬유고분자공학과)
The photosensitive polyamide precursors were synthesized from pyromellitic acid dich-loride di(o-nitrobenzyl) ester with o-nitrobenzyl group and two amines such as m-phenylene diamine and m-diaminobenzophenone by interfacial polycondensation reaction. The polymers obtained were able to be converted ...
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