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NTIS 바로가기電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D, v.34D no.10, 1997년, pp.68 - 76
최성규 (서울대학교 전기공학부) , 최진영 (서울대학교 전기공학부) , 권욱현 (서울대학교 전기공학부)
In this paper, design parameters of rapid thermal processing(RTP) to minimize the wafer temperature uniformity errors are proposed. Lamp ring positions and the wafer height are important parameters for wafer temperature uniformity in RTP. We propose the method to seek lamp ring positions and the waf...
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