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논문 상세정보

초록

진공 증착법으로 수정 기판 위에 증착된 유전체 고반사 다층 박막의 산란을 TIS 방법을 이용하여 측정하였다. 기판온도 250~300.deg. C에서 증착한(Ta$_{2}$O$_{5}$/SiO$_{2}$) 다층 박막의 산란율은 0.048~0.050%이며 300.deg. C에서 4시간 열처리에 의하여 영향을 받지 않았다. 기판온도 250.deg. C에서 증착한 (TiO$_{2}$/SiO$_{2}$) 다층 박막의 산란율은 0.029%이며 열처리에 의하여 심한 인장 응력을 받았다. 두 다층 박막의 표면 거칠기는 거의 차이가 없었고 Ta$_{2}$O$_{5}$ 박막의 기둥이 TiO$_{2}$ 박막보다 작고 조밀도는 (Ta$_{2}$O$_{5}$/SiO$_{2}$) 다층 박막이 큰 것을 알 수 있었다. (Ta$_{2}$O$_{5}$/SiO$_{2}$) 다층 박막의 산란율이 큰 것은 Ta$_{2}$O$_{5}$ 박막이 더 조밀하고 기둥 크기가 작으므로 박막 내에 기둥 수가 증가하여 체적 산란이 증가하였기 때문인 것으로 판단된다. 것으로 판단된다.

Abstract

Scattering measurement on high reflection dielectric multilayer mirrors deposited on quartz substrate in a vacuum chamber were performed using a total integrated scattering method. Scattering of (Ta$_2$$O_5$/SiO$_2$) multilayer mirrors deposited at 250-30$0^{\circ}C$ was 0.048-0.050% and did not change with an annealing at 30$0^{\circ}C$ for 4 hours. On the other hand, scattering of (TiO$_2$/SiO$_2$) multilayer mirror at 25$0^{\circ}C$ was 0.029% and it showed the heavy tensile stress after an annealing. The rms roughness of (Ta$_2$$O_5$/SiO$_2$) multilayer mirror was almost the same as that of (TiO$_2$/SiO$_2$)multilayer mirror. The column size of Ta$_2$$O_5$ film was smaller than that of TiO$_2$film and the packing density of (Ta$_2$$O_5$/SiO$_2$) multilayer mirrors was higher than that of (TiO$_2$/SiO$_2$) multilayer mirror. It seems that the higher packing density and smaller column size of Ta$_2$$O_5$ films lead to more scattering.

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이 논문을 인용한 문헌 (1)

  1. 2002. "Effect of surface roughness onto the scattering in low loss mirrors" 한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, 13(3): 209~214 

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