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RF magnetron 스파터링법으로 제작한 TiNx 박막의 XPS 분석

XPS Analysis of TiNx Thin Films by RF Magnetron Sputtering

한국안광학회지 = Journal of Korean Ophthalmic Optics Society, v.3 no.1, 1998년, pp.115 - 120  

박문찬 (신흥대 안경광학과) ,  오정홍 (인하대학교 물리학과) ,  황보창권 (인하대학교 물리학과)

초록
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RF(radio-frequency) magnetron 스퍼터링 장치에 질소가스와 아르곤가스를 동시에 주입하면서 Ti 타켓을 스퍼터링하여 $TiN_x$ 박막을 유리기판위에 제작하였다. 박막제작시 RF power supply 출력을 240W로, 증착기 내부의 온도는 $200^{\circ}C$를 유지하였다. $TiN_x$ 박막은 알곤 가스를 20sccm으로 고정시킨 상태에서 질소를 3sccm부터 9sccm까지 변화시켜가며 증착시켰다. 이때 박막의 화학적 조성과 성분비를 분석하기 위하여 XPS를 사용하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The $TiN_x$ thin films were prepared on glass substrate by RF(radio-frequency) magnetron sputtering apparatus from a Ti target in a gaseous mixture of argon and nitrogen. In deposition, a RF power supply was used as a power source with a constant power of 240W, and the substrate was heate...

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