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NTIS 바로가기한국결정성장학회지 = Journal of the Korean crystal growth and crystal technology, v.9 no.1, 1999년, pp.60 - 63
신승호 (한양대학교 재료공학과) , 장재은 (삼성종합기술원) , 나경원 (삼성종합기술원) , 이우용 (삼성종합기술원) , 김성진 (삼성종합기술원) , 정용선 (한양대학교 세라믹공정연구센터) , 전형탁 (한양대학교 세라믹공정연구센터) , 오근호 (한양대학교 세라믹공정연구센터)
Application of reactive ion etching (RIE) technique to Ta-Al alloy thin film with a thickness of
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