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다공질규소에 전착된 CdTe 화합물 박막의 특성과 효과
The properties and effects of the electrodeposited CdTe compound film on the porous silicon 원문보기

한국결정성장학회지 = Journal of the Korean crystal growth and crystal technology, v.9 no.1, 1999년, pp.89 - 93  

김영유 (공주대학교 물리학과) ,  이춘우 (공주대학교 물리학과) ,  류지욱 (공주대학교 물리학과) ,  홍사용 (공주대학교 물리학과) ,  박대규 (공주대학교 물리학과) ,  육근철 (공주대학교 물리교육과)

초록
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나노 구조를 갖는 다공질 규소의 표면과 투명하고 전도성을 갖는 접촉방법을 얻기 위해 다공질 규소 표면에 CdTe 화합물 박막을 전착시키는 방법을 시도하였다. CdTe 화합물 박막은 1 M의 $CdSO_4$와 1mM의 $TeO_4$가 혼합된 전해액 속에서 전착 전위 2-2.3V(vs. Ag/AgCl)로 다공질규소의 표면에 전착시켰다. X선 회절 측정결과 다공질규소 표면에 CdTe 화합물 박막이 생성되었음이 확인되었고, AES 분석결과 표면에서 약 80nm 깊이까지 Cd 및 Te 원소가 균일하게 존재하였다. 그리고 CdTe 화합물 박막이 전착된 다공질규소의 PL 특성은 발광의 세기는 약간 검소하였고 최대파장값은 고에너지 쪽으로 이동하였다. 이 결과로 보아 CdTe 전착 박막이 나노 구조를 갖는 다공질규소와 투명하고 전도성을 갖는 접촉물질로 이용될 수 있음이 밝혀졌다.

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The properties and effects of the electrodeposited CdTe compound film on the porous silicon. To find ways to achieve good mechanical contact on the nanostructure porous silicon layer while keeping the interface transparent, we tried to electrodeposit a CdTe compound film on the porous silicon surfa...

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