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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.9 no.9, 1999년, pp.861 - 864
강양범 (한양대학교 재료공학부) , 전형탁 (한양대학교 재료공학부) , 김태영 (서울대학교 원자핵공학과) , 정기형 (서울대학교 원자핵공학과) , 고동균 (중앙대학교 물리학과) , 정재국 (중앙대학교 물리학과) , 노승정 (단국대학교 응용물리학과)
A new plasma source using the multi-cathode electron beam has been designed and manufactured. A multi-cathode was adopted to produce bulk plasmas in a large volume. Multi-cathode electron beam plasma source(MCEBPS) was found to generate stable plasmas over the wafer diameter of 300 mm or above. W(tu...
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