$\require{mediawiki-texvc}$
  • 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"
쳇봇 이모티콘
안녕하세요!
ScienceON 챗봇입니다.
궁금한 것은 저에게 물어봐주세요.

논문 상세정보

$CF_4$/Ar 플라즈마 내 $Cl_2$첨가에 의한 $SrBi_{2}Ta_{2}O_{9}$ 박막의 식각 특성

Etching Characteristics of $SrBi_{2}Ta_{2}O_{9}$ Thin Film with Adding $Cl_2$ into $CF_4$/Ar Plasma

Abstract

SrBi$_2$Ta$_2$$O_{9}$ thn films were etched in inductively coupled Cl$_2$/CF$_4$/Ar plasma. THe maximum etch rate was 1060 $\AA$/min at a Cl$_2$/(Cl$_2$+CF$_4$+Ar)=0.2. The 20% additive Cl$_2$ into CF$_4$/Ar plasma decreased carbon and fluorine radicals, but increased Cl radicals. Sr was effectively removed by reacting with Cl radical because the boiling point of SrCl$_2$(125$0^{\circ}C$) is lower than that of SrF$_2$(246$0^{\circ}C$). The chemical reactions on the etched surface were studied with x-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry. The etching profile was evaluated by using scanning electron microscopy.y.

참고문헌 (15)

  1. Ferroelectric Strontium Bismuth Tantalate thin films deposited by metalorganic chemical vapour deposition(MOCVD) , J. F. Roeder;B. C. Hendrix;F. Hintermaier;D. A. Desrochers;T. H. Baum;G. Bhandari;M. Chappuis;P. C. Van Buskirk;C. Dehm;E. Fritsch;N. Nagel;H. Wendt;H. Cerva;W. Honlein;C. Mazure , J. Eur. Ceram. Soc. / v.19,pp.1463-1466, 1999
  2. Effects of oxide electrode on $PbZr_xTi_{1-x}/O_3$ thin films prepared by metalorganic chemical vapor deposition , T. Y. Kim;D. S. Kim;C. W. Chung , J. Appl. Phys. / v.36,pp.6494-6499, 1997
  3. Fatigue characteristics of Sol-Gel derived Pb(Zr, Ti)O₃ thin films , K. Amanuma;T. Hase;Y. Miyasaka , J. Appl. Phys. / v.33,pp.5211-5214, 1994
  4. Integrating ferroelectrics , S. P. DeOrnellas;A. Cofer , Solid State Technol. / v.41,pp.53-, 1998
  5. Imprint of oriented Pb(Zr, Ti)O₃ thin films with oxygen atmosphere in cooling process , H. S. Lee;K. H. Auh;M. S. Jeon;W. S. Um;I. S. Lee;G. P. Choi;H. G. Kim , J. Appl. Phys. / v.37,pp.5630-5633, 1998
  6. Etching characteristics of $SrBi_2Ta_2O_9$ film with Ar CHF₃ plasma , J. W. Seo;D. H. Lee;W. J. Lee;B. G. Yu;K. H. Hwon;G. Y. Yeom;E. G. Chang;C. I. Kim , J. Vac. Sci. Technol. A / v.18,pp.1354-1358, 2000
  7. MOD법에 의한 강유전성 $Sr_xBi_yTa_2O_{9+{\alpha}}/(SBT)$ 박막의 제조 및 후열처리 효과에 관한 연구 , 정병석;신동석;윤희성;김병호 , 전기전자재료학회논문지 / v.11,pp.229-236, 1998
  8. Preparation of $SrBi_2Ta_{1.5}Nb_{0.5}O_{9}$ ferroelectric thin films by RF sputtering on large substrate , T. Masuda;Y. Miyaguchi;K. Suu;S. Sun , J. Appl. Phys. / v.39,pp.5460-5464, 2000
  9. FRAM소자의 제조 기술 현황 , 강남수 , 전자전기재료 / v.13,pp.715-722, 1998
  10. The etching characteristics of $SrBi_2Ta_2O_9$ thin film in CF₄/Ar plasma using plasma , D. P. Kim;C. I. Kim , Thin Solid Films / v.385,pp.162-166, 2001
  11. A Study on a metal-ferroelectric-oxide-semiconductor structure with thin silicon oxide film using $SrBi_2Ta_2O_9$ ferroelectric films prepared by pulsed laser deposition , M. Noda;H. Sugiyama;M. Okuyama , J. Appl. Phys. / v.38,pp.5432-5436, 1999
  12. Reactive ion etching of ferroelectric $SrBi_2Ta_xNb_{2-x}O_9$ thin films , S. B. Desu;W. Pan , Appl. Phys. Lett. / v.68,pp.566-568, 1996
  13. Ar/Cl₂ 식각 후 SBT 박막의 표면에 관한 연구 , 김동표;김창일;이원재;유병곤;김태형;장의구 , 한국전자전기재료학회 추계학술대회 논문집 / v.13,pp.363-366, 2000
  14. Effect of excess bismuth on the microstructures and electrical properties of strontium bismuth tantalate SBT thin films , A. Lia;D. Wu;H. Ling;T. Yu;M. Wang;X. Yin;Z. Liu;N. Ming , Thin Solid Films / v.375,pp.215-219, 2000
  15. Impact of face-to-face annealing in preparation of sol-gel-derived $SrBi_2Ta_2O_9$ thin films , K. Aizawa;E. Tokumitsu;K. Okamoto;H. Ishiwara , Appl. Phys. Lett. / v.76,pp.2609-2611, 2000

이 논문을 인용한 문헌 (1)

  1. 2002. "Effect of Mixed Gases on Decomposition Characteristic of CF4 by Non-Thermal Plasma" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, 15(6): 543~550 

원문보기

원문 PDF 다운로드

  • ScienceON :

원문 URL 링크

  • 한국학술정보 : 저널
  • (사)한국전기전자재료학회 : 저널

원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다. (원문복사서비스 안내 바로 가기)

상세조회 0건 원문조회 0건

DOI 인용 스타일