[논문]Mumetal 박막의 성장온도가 유도자기이방성에 미치는 영향

이영우; 김철기; 김종오

doi:10.4283/jkms.2002.12.2.046

Mumetal 박막의 성장온도가 유도자기이방성에 미치는 영향
Effect of the Growing Temperature on the Induced Anisotropy of Mumetal Thin Film 원문보기

韓國磁氣學會誌 = Journal of the Korean Magnetics Society, v.12 no.2, 2002년, pp.46 - 50

이영우 (충남대학교 재료공학과) , 김철기 (충남대학교 재료공학과) , 김종오 (충남대학교 재료공학과)

초록
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110$\AA$ 두께의 Mumetal 박막을 자기장하에서 기판온도를 변화시키면서 제작하고, 고진공 분위기에서 자기장중 열처리를 수행하였다. 박막에 유도되는 자기이방성은 인가자기장 방향에서 30$^{\circ}$간격으로 180$^{\circ}$까지 자기이력곡선을 측정하여 조사하였다. 기판 온도가 증가할수록 용이축 방향의 보자력은 감소하였으나 일축이방성은 인가자기장 방향에서 벗어났다. 20$0^{\circ}C$에서 한 시간 동안 자기장중 열처리를 수행하면 기판온도에 상관없이 일축이방성이 향상되었다. 기판온도가 5$0^{\circ}C$ 이하일때 4.3 Oe의 이방성 자기장을 나타냈으며 기판온도가 증가할수록 이방성 자기장은 감소하였다. Mumetal 박막의 일축이방성은 열처리 전후 모두 5$0^{\circ}C$에서 가장 잘 유도되었다.

Abstract ▼ AI-Helper

Soft magnetic Mumetal thin film was fabricated under magnetic field at various substrate temperatures. High vacuum annealing was carried out at 200$\^{C}$ during 1 hr. The in-plane anisotropy of Mumetal thin film was determined from hysteresis loops measured by VSM when the sample axis varied from the field direction from 0°to 180°. As the substrate temperature increases, the coercivity in easy direction decreases, but uniaxial anisotropy deviates from the field direction. After vacuum annealing at 200$\^{C}$ for 1 hr, the uniaxial anisotropy is improved irrespective of substrate temperature. When the substrate temperature was 50$\^{C}$, the anisotropy field is 4.3 Oe. As the substrate temperature increases anisotropy field decreases. Uniaxial anisotropy of Mumetal thin film was formed best at 50$\^{C}$ before and after annealing.

주제어

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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