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CeO2 연마입자의 합성온도와 수계안정성이 CMP 특성에 미치는 영향
Effects of Synthetic Temperature and Suspension Stability of CeO2 Abrasive on CMP Characteristics 원문보기

한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.40 no.2 = no.249, 2003년, pp.167 - 171  

임건자 (한국과학기술연구원 나노재료연구센터) ,  김태은 (한국과학기술연구원 나노재료연구센터) ,  이종호 (한국과학기술연구원 나노재료연구센터) ,  김주선 (한국과학기술연구원 나노재료연구센터) ,  이해원 (한국과학기술연구원 나노재료연구센터) ,  현상훈 (연세대학교 세리믹공학과)

초록
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기계적 방법으로 합성된 CeO$_2$분말을 연마입자로 하여 STI용 CMP 슬러리를 제조하였다. 연마입자는 정전기적 방법과 입체적 방법으로 수계에서 안정화시킬 수 있었으며, 장기 안정성을 위해서는 입체적 방법에 의한 안정화가 유효하였다. 50$0^{\circ}C$와 $700^{\circ}C$에서 합성된 CeO$_2$를 이용하여 CMP 슬러리를 제조하고, SiO$_2$와 Si$_3$N$_4$가 블랭킷 형태로 증착된 웨이퍼를 연마한 결과 연마능률과 선택비는 연마입자의 합성조건과 분산 안정성, 슬러리의 pH 등에 의해 영향을 받았다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

CMP(Chemical Mechanical Planarization) slurry for STI process is made by mechanically synthesized$CeO_2$as abrasive. The abrasive can be stabilized by electrostatic or steric stabilization in aqueous slurry and steric stabilization is more effective for long-term stability. Blanket-type

주제어

# $CeO_2$Chemical mechanical planariration   #Synthetic temperature   #Suspension stability   #pH  

참고문헌 (9)

  1. Yoon, Il Young, Jeong, Jong Yeul, Park, Young Bae, Lee, Dok Won, Ryu, Hyuk Hyun, Lee, Won Gyu. Influence of High Selectivity Slurry in Shallow Trench Isolation CMP on Junction Leakage Characteristics. Electrochemical and solid-state letters, vol.5, no.4, G19-.

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  9. 김태은, 임건자, 이종호, 김주선, 이해원, 임대순. CeO2 슬러리에서 Glycine의 흡착이 질화규소 박막의 연마특성에 미치는 영향. 한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, vol.40, no.1, 77-80.

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