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논문 상세정보

단일전구체(1,3-DSB)에 의한 저온 SiC박막 성장에 관한 연구

A Study on the Low Temperature Growth of SiC Film with a 1,3-DSB Precursor

Abstract

Silicon carbide thin film was deposited in APCVD and LPCVD system with 1,3-DSB precursor 1,3-DSB is the single precursor to deposit SiC on Si at low temperature. SiC film was deposited at $850^{\circ}C$ lower than ordinary temperature ($1000~1200^{\circ}C$) in CVD process. SiC thin film glowed to high oriented (111) plane in APCVD system. In LPCVD system, SiC film groved to preferred (220) plane at same temperature. This discrepancy between preferred planes can be described by the difference of deposition mechanism. Amorphous phase and crystal defect were observed in APCVD system with the main growth mechanism of mass transport limited region. But in LPCVD system, we got the SIC film of uniform, faceted structure and high quality.

주제어

#SiC   #CVD   #precursor  

참고문헌 (21)

  1. D. J. Cheng, W. J. Shyy, D. H. Kuo, M. H.Hon, J. Electrochem. Soc., 134(12) (1987)3145 
  2. T. Fuyuki, M. Nakayami, T.Yoshinobu, H.Shiomi, H. Matsunami, J. Cryst. Growth, 65(2) (1989) 461 
  3. C. H. Wu, C. Jacob, X. J. Ning, S. Nishino, P.Pirouz, J. Cryst. Growth, 158 (1996) 480 
  4. A. Josiek, F. Langlais, J. Cryst. Growth, 160(1996) 253 
  5. Doo-Jin Choi, Joon-Woo Kim, J. Kor. Ceram.Soc.,34(8) (1997) 825 
  6. K. Takahashi, S. Nishino, J. Saraie, J. Electro-chem. Soc., 139 (1992) 3565 
  7. A. J. Steckl, C. Yuan, J. P. Li, M. J. Loboda,Appl. Phys. Lett, 63(24) (1993) 3347 
  8. K. W. Lee, K. S. Yu, Y. Kim, J. Cryst. Growth,179 (1997) 153 
  9. K. W. Lee, K. S. Yu, J. H. Boo, Y. Kim, T. Hatayama, T. Kimoto, H. Matsunami, J. Electrochem.Soc., 144(4) (1997) 1474 
  10. Ishizaka A., Shiraka Y, J. Electrochem. Soc.,133 (1986) 666 
  11. G. S. Fischman, W. T. Petuskey, J. Am. Ceram.Soc.,68(4) (1985) 185 
  12. D. Walton, Phil. Mag., (1962) 1971 
  13. A. Van der Drift, Philips Res. Repts., 22(1967) 267 
  14. D. N. Lee, J. Mater. Sci., 24 (1989) 4375 
  15. J. Chin, P. K. Gantzel, R. G. Hudson, ThinSolid Films, 40 (1977) 57 
  16. H. M. Gagriel, K. H. Kloos, Thin Solid Films. 118 (1984) 243 
  17. L. Hultman, J. E. Sundgren, L. C. Market, J.E. Greene, J. Vac. Sci. Technol, A7(3)(1989) 1187 
  18. Dong-Joo Kim, Doo-Jin Choi, Young-WookKim, Shang-Whan Park, J. Kor. Ceram. Soc. 32(4) (1995) 419 
  19. R. Pampuch, L. Stobierski, Ceramurgia Inter-national, 3 (2) (1977) 43 
  20. A. Addamiano, J. A. Spraque, Appl. Phys.Lett.,44(5) (1984) 525 
  21. K. J. Sladek, J. Electrochem. Soc., 118(4)(1971) 654 

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