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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.18 no.9, 2005년, pp.798 - 802
주철원 (한국전자통신연구원 기반기술연구소) , 이경호 (한국전자통신연구원 기반기술연구소) , 민병규 (한국전자통신연구원 기반기술연구소) , 김성일 (한국전자통신연구원 기반기술연구소) , 이종민 (한국전자통신연구원 기반기술연구소) , 강영일 (한국전자통신연구원 기반기술연구소)
The plating shape in the opening of photoresist becomes gradated shape in the fountain plating system, because bubbles from the wafer surface are difficult to escape from the deep openings, vias. In this paper, the bubble flow from the wafer surface during plating process was studied and we designed...
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