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The plating shape in the opening of photoresist becomes gradated shape in the fountain plating system, because bubbles from the wafer surface are difficult to escape from the deep openings, vias. In this paper, the bubble flow from the wafer surface during plating process was studied and we designed...

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문제 정의

  • 본 논문에서는 분수형 도금장비에 의해 부분적 으로 도금이 안되는 현상을 개선하고자, 도금방식 에 따른 웨이퍼 표면에서 발생한 기포가 웨이퍼 표면으로 부터 빠져 나가는 메카니즘을 고찰하였 다. 그리고 웨이퍼 표면의 부분 도금을 방지하기 위하여 경사진 전극링을 제작하여 dip 방식의 도금 장치에 설치한 후, 경사진 전극링 도금장치 및 분 수형 도금장비를 사용하여 형성한 각각의 범프 topology# SEM으로 관측하고 높이를 q-step으로 측정 비교하였다.
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참고문헌 (6)

  1. H. Kusamitsu, Y. Morishita, K. Maruhashi, M. Ito, and K. Ohata, 'The flip chip bump interconnection for millimeter wave GaAs MMIC', IEEE Tr. on Electronics Packaging Manufacturing, Vol. 22, No. 1, p. 23, 1999 

  2. W. Heinrich, A. Jentzsch, and G. Baumann, 'Millimeter wave characteristics of flip chip interconnection for multichip module', IEEE Tr. on Microwave Theory and Techniques, Vol. 46, No. 12, p. 2264, 1998 

  3. K. Seyama, H. Yamamoto, K. Satou, H. Yoshimura, H. Ota, and Y. Usui, 'Transcription solder bump technology using the evaporation method', Proceedings of the International Conference on Multichip Modules and High Density Packaging, p. 314, 1998 

  4. S.-W. Lu, Z.-H. Wu, Y.-J. Huang, R.-H. Uang, W.-C. Lo, H.-T. Hu, Y.-F. Chen, L.-C. Kung, and H.C. Huang, 'Process control of high density solder bumps by electroplating technology', Electronics Manufacturing Technology Symposium, IEEE/CPMT, p. 325, 1999 

  5. A. Mistry, J. Czarnowski, C. Beddingfield, Q. Tan, J. Guajardo, K. Rhyne, J. Kleffner, T. Scanlon, J. Lozano, D. Wontor, and K. Scott, 'Performance of evaporated and plated bumps on organic substrates', Electronics Manufacturing Technology Symposium, IEEE/CPMT, p. 1, 1998 

  6. H.-C. Jang, C.-W. Jee, Y.-H. Kim, I.-B. Park, S.-M. Seo, and B.-Y. Min, 'A study on the reliability of stencil printed solder bumps', Electronics Manufacturing Technology Symposium, IEEE/CPMT, p. 288, 2000 

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