디스플레이용 기판으로 사용하고 있는 유리기판은 무겁고 깨지기 쉬우므로 이를 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 환상형 올레핀고분자 등의 플라스틱으로 대체하는 연구가 많이 이루어지고 있다. 플라스틱 기판은 가볍고, 내충격성이 뛰어나며, 유연하고 연속가공이 가능한 장점을 가지고 있다. 그러나 여러 유기용매에 녹는 특성을 가지고 있다. 디스플레이 제조 공정에서는 여러 유기용매에 노출되므로 이에 대한 내화학성이 필요하다. 그러므로 본 연구에서는 폴리설폰에 곁가지로 이미드 가교기를 도입하여 내화학성을 향상시키는 연구를 하였다. 곁사슬기에 의해 가교된 폴리설폰 필름은 용해도 조사 결과 내화학성이 향상되었음을 확인할 수 있었다. 내화학성 측정 결과 MeOH, THF, DMSO, NMP 등의 유기용매에 불용성을 보였다. 또한 15% 이상 낮은 열팽창계수를 보여 열에 대한 치수안정성이 개선되었으며 유리 전이 온도도 이미드기의 도입에 따라 $180^{\circ}C$ 에서 $252^{\circ}C$ 로 증가하였다. 이와 같이 제조한 이미드 곁가지로 가교된 폴리설폰은 광학적 특성이 우수하면서도 내화학성이 뛰어나 유연성 플라스틱 기판으로 사용이 가능하다.
디스플레이용 기판으로 사용하고 있는 유리기판은 무겁고 깨지기 쉬우므로 이를 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 환상형 올레핀 고분자 등의 플라스틱으로 대체하는 연구가 많이 이루어지고 있다. 플라스틱 기판은 가볍고, 내충격성이 뛰어나며, 유연하고 연속가공이 가능한 장점을 가지고 있다. 그러나 여러 유기용매에 녹는 특성을 가지고 있다. 디스플레이 제조 공정에서는 여러 유기용매에 노출되므로 이에 대한 내화학성이 필요하다. 그러므로 본 연구에서는 폴리설폰에 곁가지로 이미드 가교기를 도입하여 내화학성을 향상시키는 연구를 하였다. 곁사슬기에 의해 가교된 폴리설폰 필름은 용해도 조사 결과 내화학성이 향상되었음을 확인할 수 있었다. 내화학성 측정 결과 MeOH, THF, DMSO, NMP 등의 유기용매에 불용성을 보였다. 또한 15% 이상 낮은 열팽창계수를 보여 열에 대한 치수안정성이 개선되었으며 유리 전이 온도도 이미드기의 도입에 따라 $180^{\circ}C$ 에서 $252^{\circ}C$ 로 증가하였다. 이와 같이 제조한 이미드 곁가지로 가교된 폴리설폰은 광학적 특성이 우수하면서도 내화학성이 뛰어나 유연성 플라스틱 기판으로 사용이 가능하다.
The mort commonly available substrate material is glass in the display fibrication process. However, glass is not desirable due to its heaviness and fragility. Recently, plastics such polysulfone (PSF), polyethesulfone (PES), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET) and cyclic olefin pol...
The mort commonly available substrate material is glass in the display fibrication process. However, glass is not desirable due to its heaviness and fragility. Recently, plastics such polysulfone (PSF), polyethesulfone (PES), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET) and cyclic olefin polymers (COP) have been investigated to replace glass as a substrate material for display fibrication. Plastic substrates are advantageous in that they are lightweight, huh impart resistance, flexibility, and ability for roll to roll manufacturing process. But many plastics have poor chemical resistance in organic solvent. The chemica resistance is also lequired because they are exposed to solvents for various chemical treatments din the manufacturing process. So, we have an interest in the chemical modification of PSF to improve chemical resistance. We introduced crosslinkable imide moieties using chloromethylation method for the modification of PSF which could be overcome above shortcomings for display substrate based on plastic film. We prepared the cross-linked polysulfone films which were represented chemical resistance in HeOH, THF, DMSO and NMP. The thermal properties were measured by TGA, DSC and TMA. As the results, we have confirmed to enhance of the thermal property. They had low coefficient of thermal expansion (CTE) which decreased to 15% and had increased $T_g\;from\;180^{\circ}C\;to\;252^{\circ}C$. Cross-linked polysulfone films with imide side-chain had good optical properties and chemical resistance so that they could be used as flexible display substrate.
The mort commonly available substrate material is glass in the display fibrication process. However, glass is not desirable due to its heaviness and fragility. Recently, plastics such polysulfone (PSF), polyethesulfone (PES), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET) and cyclic olefin polymers (COP) have been investigated to replace glass as a substrate material for display fibrication. Plastic substrates are advantageous in that they are lightweight, huh impart resistance, flexibility, and ability for roll to roll manufacturing process. But many plastics have poor chemical resistance in organic solvent. The chemica resistance is also lequired because they are exposed to solvents for various chemical treatments din the manufacturing process. So, we have an interest in the chemical modification of PSF to improve chemical resistance. We introduced crosslinkable imide moieties using chloromethylation method for the modification of PSF which could be overcome above shortcomings for display substrate based on plastic film. We prepared the cross-linked polysulfone films which were represented chemical resistance in HeOH, THF, DMSO and NMP. The thermal properties were measured by TGA, DSC and TMA. As the results, we have confirmed to enhance of the thermal property. They had low coefficient of thermal expansion (CTE) which decreased to 15% and had increased $T_g\;from\;180^{\circ}C\;to\;252^{\circ}C$. Cross-linked polysulfone films with imide side-chain had good optical properties and chemical resistance so that they could be used as flexible display substrate.
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문제 정의
그러나 폴리설폰은 각종 극성 유기용매에 잘 용해되는 특성이 있다. 따라서 본 연구에서는 폴리설폰에 내화학성을 부여하여 플라스 틱 기판 소재로 사용하기 위해 곁사슬에 가교가 가능한 반응성기를 도 입하였다. 반응성기로는 이미드 화합물을 도입하였다.
이와 더불어 모 듈 제조 공정에서는 여러 유기 용제를 사용하므로 내용제성이 요구 된다. 본 연구에서는 무정형 고분자로서 투명성이 우수하고, 또한 유 리 전이 온도가 180℃ 이상으로 내열성이 우수한 폴리설폰을 플라스 틱 기판 소재로 이용하는 경우 용제에 대한 내화학성이 취약한 단점이 있으므로 이를 향상시킬 목적으로 가교가 가능한 폴리설폰을 합 성하였다.
제안 방법
PSFMAm의 구조분석. C6PSF에 아민화합물을 도입하기 위해 4- aminobenzoic acid를 첨가해 에스테르화 반응을 진행하였다. 이 반 응은 반응촉매로 KQQ를 사용하고, 상전이 촉매로서 테트라부틸 암모늄브로마이드를 사용하였다.
PSF-I 필름의 광학적 특성. 경화된 폴리설폰의 광학적인 특성을 측 정하기 위해 YI, haze, transmittance를 측정하였다.
9~ 35%로 아민 화합물을 포함하는 폴리설폰을 DMAS] 용해하여 이무 수화물을 첨가하여 이미드.구조로 가교된 필름을 제조하였다. 각각 제조된 필름은 모듈 공정에서 사용되는 MeOH, THF, DMSQ NMP 등의 유기 용매에 불용성인 내화학성이 향상된 특성을 나타내었다.
FTIR 스펙트럼을 확인한 결과 대부분의 아믹산이 이미드로 전환되었으나 소량은 아믹산 형태로 남 아있음이 확인되었다. 그러나 TGA 분석 결과(Figure 10) 그 양은 미미한 것으로 판단되며 250 P 이상의 조건에서 경화시키는 경우 치 환율이 작을수록 황변현상이 많이 관찰되므로 광학적 특성을 유지 하기 위하여 경화를 200 r 진공오븐에서 12시간 진행하는 조건을 채택하였다.
다음으로 TMA 분석을 통하여 LCD에서 요구하는 공정 온도인 상 온 ~150 P 에서의 열팽창율을 측정하였다. 그 결과를 Figure 12에 나타내었다.
기기. 단량체의 합성 여부는 Jasco 610 r ilK spectrometer와 Bruker AMX-300MHz NMR specttometer를 이용하여 조사하였다. 열적 특성 은 TA Instruments TGA Q500으로 질소 기류 하에서 10 P/miii의 숭온 속도로 측정하였고, 유리 전이 온도는 TA Instrument DSC Q1000 으로 질소 기류 하에서 10 C/m血의 승온 속도로 측정하였다.
이미드 치환기의 함량이 증가함에 따라 1780, 1720 cm」에서의 밴드의 크기가 커짐을 확인할 수 있었다. 도입된 아믹산 곁사슬기를 완전히 이미드화시키기 위해서는 300℃ 이상으로 가열하여야 하나 주사슬인 폴리설폰의 유리 전 이 온도가 180 P이므로 대류오븐에서의 경화 온도를 200 T까지로 하여 부분 이미드화를 진행하였다. FTIR 스펙트럼을 확인한 결과 대부분의 아믹산이 이미드로 전환되었으나 소량은 아믹산 형태로 남 아있음이 확인되었다.
본 연구는 폴리설폰 필름을 광학적인 용도로 사용하기 위함임을 앞서 밝힌바 있다. 따라서 제조한 필름의 광학적 특성을 측정하였다. 광학적 필름은 빛의 투과율이 85% 이상으로 요구되고, haze 값이 5 이하이며, 또한 YI가 7 이하의 필름이어야 한다.
아믹산 곁사슬로 가교된 폴리설폰의 합성. 반응기에 PSFMAm 1 g을 DMAc 9 g에 녹인 후 ODPA(amme 화합물 치환율 대비 0.5 당 량)을 첨가하고 12시간 반응을 진행하였다. 합성 방법을 Figure 5에 나타내었다.
본 연구에서는 클로로메틸화 반응을 이용하여 폴리설폰에 곁사슬로 클로로메틸렌기를 도입하였다. 반응 시간에 따라 클로로메틸렌기의 치 환율을 9~35%로 성공적으로 조절하였다.
단량체의 합성 여부는 Jasco 610 r ilK spectrometer와 Bruker AMX-300MHz NMR specttometer를 이용하여 조사하였다. 열적 특성 은 TA Instruments TGA Q500으로 질소 기류 하에서 10 P/miii의 숭온 속도로 측정하였고, 유리 전이 온도는 TA Instrument DSC Q1000 으로 질소 기류 하에서 10 C/m血의 승온 속도로 측정하였다. 열팽 창겨X수(coe伍cient of thennal expansion: CTE)는 TA Instruments TMA 2940으로 10 P/mill의 승온 속도로 측정하였다.
열적 특성 은 TA Instruments TGA Q500으로 질소 기류 하에서 10 P/miii의 숭온 속도로 측정하였고, 유리 전이 온도는 TA Instrument DSC Q1000 으로 질소 기류 하에서 10 C/m血의 승온 속도로 측정하였다. 열팽 창겨X수(coe伍cient of thennal expansion: CTE)는 TA Instruments TMA 2940으로 10 P/mill의 승온 속도로 측정하였다. 제조한 필름의 가 시광선 영역에서의 광투과도를 측정하기 위하여 Agilent사의 UV- Visible spectroscopy(Model; 8453 optics)를 사용하였고, yellow index (YI)는 HunterLab사의 Color Quest II를 사용하여 ASTM D 1925 (Yellowness Index of Plastics), ASTM E 308(computing 반le colors of objects by using the CIE system)의 방법으로 측정하였다.
이미드 곁사슬로 가교된 폴라설폰(PSF-I) 필름의 제조 세척한 유리판에 doctor's blade를 장착한 자동도공기(fMm applicator)를 이용하여 100 Htn 두께로 casting 하였다. 진공 오븐 60℃에서 30분, 90 P 에서 30 분, 120 P에서 5시간 건조한 후, 유리판에서 필름을 탈리하여 사각 형틀에 고정시켜, 200 P에서 12시간 열에 의한 탈수반응을 통해 이 미드화하였다.
PSF-I의 구조는 FITR 스펙트럼에 의해 확인 하였으며, 그 결과를 Figure 9에 도시하였다. 이미드 곁사슬의 이미 드화가 진행되었음은 1780 cm」에서 in-plane imide carbonyl group (symmetric C=O stretching in imide) 와 1720 cm」에서 outyEplane imide carbonyl group(asymmetric C=O stretching in imide) 에서 나타나는 이미드 특성 밴드에 의해 확인하였다. 이미드 치환기의 함량이 증가함에 따라 1780, 1720 cm」에서의 밴드의 크기가 커짐을 확인할 수 있었다.
PSF-I 폴리설폰 필름의 열적 특성. 제조된 PSF-I 필름의 내열성을 평 가하기 위해 본 연구에서는 DSC, TGA 및 TMA 분석을 통하여, 유 리 전이 온도(Tg)와 열팽창계수(CTE) 및 열 분해거동을 조사하였다. 가교된 PSF-I 필름의 열분해 거동은 TGA(thermogravimetric analysis) 분석에 의해 관찰하였으며, 그 결과를 Table 4와 Figure 10에 나타내었다.
5 g을 DMF 50 mL에 녹였 다. 질소 분위기에서 온도를 40℃로 유지하^, 치환율을 조절한 CMPSF 의 치환율에 따라 4아미노벤조산(-CHCl 치환율 대비 L2 당량), KQXCHQ 치환율 대비 1.2 당량), f 부틸암모늄브로마이드(CHQ 치환율 대비 1.2 equivalent)을 첨가하여 반응을 진행하였다. 24시간반응을 진행한 후, 용액을 증류수에 침전시키고, 증류수로 3번 세척 하여, 50℃로 온도가 조절된 진공 건조기에서 24시간 건조하여 PSFMAm을 합성하였다.
반응 시간에 따라 클로로메틸렌기의 치 환율을 9~35%로 성공적으로 조절하였다. 클로로메틸렌 폴리설폰에 가교가 가능한 화합물로서 이미드 곁사슬로 가교된 폴리설폰 필름을 제 조하기 위하여 소아미노벤조산을 사용하여 아민기를 도입하였다. 9~ 35%로 아민 화합물을 포함하는 폴리설폰을 DMAS] 용해하여 이무 수화물을 첨가하여 이미드.
이를 진공 오븐 40 P에서 24시간 건조하였다. 폴리설폰은 Figure 1과 같은 반복단위를 갖는 고분자로, 정제한 폴리설폰의 구조는 1H-NMR spectroscopy(solvent: CDCL)로 분석하였으며eigure2에 도시하였다.
대상 데이터
Formaldehyde (95%), cHorotrime1hylsilane(99+%)^ tin(IV) 산血iide(99%), K2CO3는 Aldrich 사의 제품을 구입하여 정제없이 사용하였다. 4-Aminobenzoic add(99%) 는 TCI사의 제품, tertbutylammoniumbromEde(99%) 는 Aldrich사의 제 품을 사용하였다. 침전용매로 사용한 메탄올은 EP급을 그대로 사용하였다.
의 제품을 사용하였다. Formaldehyde (95%), cHorotrime1hylsilane(99+%)^ tin(IV) 산血iide(99%), K2CO3는 Aldrich 사의 제품을 구입하여 정제없이 사용하였다. 4-Aminobenzoic add(99%) 는 TCI사의 제품, tertbutylammoniumbromEde(99%) 는 Aldrich사의 제 품을 사용하였다.
5 이하로 광학적 특성이 우수한 기판의 제조가 가능하였다. 그러므로 본 연구에서 제조한 폴리설폰에 아믹산/이미드 곁사슬기를 도입하여 가교시킨 필름은 내화학성, 내열성, 광학적 특성이 우수하여 유연성 플 라스틱 기판 소재로 사용할 수 있다.
시약. 본 연구에서 사용된 폴리설폰은 BASF사의 S-2010(Mw 60000) 제품을 정제하여 사용하였다. 클로로포름, jVAedimethylacetamide (DMAc) 은 Junsd사의 특급제품을 사용하였고, MVdimethylfbnnmHde (DMF)는 Aldrich사의 HPLC급(99.
이론/모형
제조한 필름의 가 시광선 영역에서의 광투과도를 측정하기 위하여 Agilent사의 UV- Visible spectroscopy(Model; 8453 optics)를 사용하였고, yellow index (YI)는 HunterLab사의 Color Quest II를 사용하여 ASTM D 1925 (Yellowness Index of Plastics), ASTM E 308(computing 반le colors of objects by using the CIE system)의 방법으로 측정하였다. Haze는 Nippon Denshoku사의 300A Hazemeter를 사용하여 ASTM D1004 방법에 의해 측정하였다.
필름의 노란색은 가시광선 영역의 570~580 nm에서 빛을 흡수 하여 그 보색을 우리 눈으로 관찰되는 것으로써 이러한 필름의 노 란색의 정도로 평가할 수 있는 방법은 ASTM에서 지정하는 YI를 측정하는 것이다. YI를 측정하기 위해서는 먼저 ASTM D 1925(YI of plastics), ASTM E 308 (computing the colors of objects by using the CIE system)에 의거 그 값을 측정하였으며 측정 방법은 분광색차계 측정기(cotanedr)에 ASTM D 1925, ASTM E 308의 컴퓨터 프로그램을 입력하여 필름 상태에서 측정하였다. 보통 YI 값이 7 이하일 경우 미국 특허에서는 무색의 필름이라 평가하고 있다.
열팽 창겨X수(coe伍cient of thennal expansion: CTE)는 TA Instruments TMA 2940으로 10 P/mill의 승온 속도로 측정하였다. 제조한 필름의 가 시광선 영역에서의 광투과도를 측정하기 위하여 Agilent사의 UV- Visible spectroscopy(Model; 8453 optics)를 사용하였고, yellow index (YI)는 HunterLab사의 Color Quest II를 사용하여 ASTM D 1925 (Yellowness Index of Plastics), ASTM E 308(computing 반le colors of objects by using the CIE system)의 방법으로 측정하였다. Haze는 Nippon Denshoku사의 300A Hazemeter를 사용하여 ASTM D1004 방법에 의해 측정하였다.
성능/효과
도입된 아믹산 곁사슬기를 완전히 이미드화시키기 위해서는 300℃ 이상으로 가열하여야 하나 주사슬인 폴리설폰의 유리 전 이 온도가 180 P이므로 대류오븐에서의 경화 온도를 200 T까지로 하여 부분 이미드화를 진행하였다. FTIR 스펙트럼을 확인한 결과 대부분의 아믹산이 이미드로 전환되었으나 소량은 아믹산 형태로 남 아있음이 확인되었다. 그러나 TGA 분석 결과(Figure 10) 그 양은 미미한 것으로 판단되며 250 P 이상의 조건에서 경화시키는 경우 치 환율이 작을수록 황변현상이 많이 관찰되므로 광학적 특성을 유지 하기 위하여 경화를 200 r 진공오븐에서 12시간 진행하는 조건을 채택하였다.
필름의 가교 특성은 이미드 곁사슬기의 증가에 따른 가교밀도를 측 정해야 하나 이에 대한 연구는 향후 진행할 예정이다. 가교시켜 제조 한 필름의 열적 특성은 유리 전이 온도가 182 P 인 폴리설폰에 비해 치환양이 많아짐에 따라 207~252℃까지 향상되는 결과를 나타내었다. 상온 ~150℃ 범위에서의 열팽창계수(CTE)를 측정한 결과, 열팽창율이 15% 감소한 우수한 결과를 나타내었다.
구조로 가교된 필름을 제조하였다. 각각 제조된 필름은 모듈 공정에서 사용되는 MeOH, THF, DMSQ NMP 등의 유기 용매에 불용성인 내화학성이 향상된 특성을 나타내었다. 필름의 가교 특성은 이미드 곁사슬기의 증가에 따른 가교밀도를 측 정해야 하나 이에 대한 연구는 향후 진행할 예정이다.
그 결과를 Figure 12에 나타내었다. 곁사슬의 가교 화합물의 양이 도입됨으로써 열팽창율이 감소하는 것을 확인하였다. 일반적으로 가교기의 함량이 증가함에 따라 열팽창율이 감소하는 경향을 보이나 PSF에 광경화성기를 도입한 경우 3%를 함유시킨 경우보다는 9%를 함유한 경우 열팽창율이 감소하 나 18%를 함유한 경우에도 미미한 변화를 보였고 아믹산/이미드 곁사슬을 도입한 경우에도 이와 같은 경향을 나타내고 있음을 확인할 수 있었다.
가교된 PSF-I 필름의 열분해 거동은 TGA(thermogravimetric analysis) 분석에 의해 관찰하였으며, 그 결과를 Table 4와 Figure 10에 나타내었다. 곁사슬의 치환양이 증가함에 따라 초기 열분해 온도가 더욱 낮아지는 특성을 보였다. 이는 에스터기를 함유하는 아믹산/이미 드 곁가지 도입에 의해 이들의 분해에 의해 내열성이 낮아짐을 나타낸다.
본 연구에서 제조한 필름들의 유리 전이 온도는 180℃ 에서 250℃ 정도로 나타났으며 아믹산/이미드 곁사슬의 함량이 증가할수록 유 리 전이 온도는 높아지는 것을 알 수 있었다. 또한 광반응성 화합물 을 도입하였을 때보다 이미드 화합물을 도입하는 경우가 유리 전이 온도를 더욱 향상시키는 것을 알 수 있었다.'5 그 결과를 Figure 11에 나타내었다.
상온 ~150℃ 범위에서의 열팽창계수(CTE)를 측정한 결과, 열팽창율이 15% 감소한 우수한 결과를 나타내었다. 또한 아믹산/ 이미드 곁사슬로 가교된 각각의 필름은 haze 값이 1.1 이하, YI 값이 5.5 이하로 광학적 특성이 우수한 기판의 제조가 가능하였다. 그러므로 본 연구에서 제조한 폴리설폰에 아믹산/이미드 곁사슬기를 도입하여 가교시킨 필름은 내화학성, 내열성, 광학적 특성이 우수하여 유연성 플 라스틱 기판 소재로 사용할 수 있다.
본 연구에서는 클로로메틸화 반응을 이용하여 폴리설폰에 곁사슬로 클로로메틸렌기를 도입하였다. 반응 시간에 따라 클로로메틸렌기의 치 환율을 9~35%로 성공적으로 조절하였다. 클로로메틸렌 폴리설폰에 가교가 가능한 화합물로서 이미드 곁사슬로 가교된 폴리설폰 필름을 제 조하기 위하여 소아미노벤조산을 사용하여 아민기를 도입하였다.
이 반 응은 반응촉매로 KQQ를 사용하고, 상전이 촉매로서 테트라부틸 암모늄브로마이드를 사용하였다. 반응이 진행됨에 따라 1H-NMR 스펙트럼에서 클로로메틸 그룹의 피크(4.53 ppm)가 사라지고, 에스터 인접 메틸 피크(4.08 ppm)와 아민 피크(521 ppm)가 새로 나타났음을 확인하였고, 이로부터 반응이 성공적으로 진행되었음을 알 수 있었다. 1H-NMR 분석 결과를 Figure 8[1] 나타내었다.
본 연구에서 제조한 필름들의 유리 전이 온도는 180℃ 에서 250℃ 정도로 나타났으며 아믹산/이미드 곁사슬의 함량이 증가할수록 유 리 전이 온도는 높아지는 것을 알 수 있었다. 또한 광반응성 화합물 을 도입하였을 때보다 이미드 화합물을 도입하는 경우가 유리 전이 온도를 더욱 향상시키는 것을 알 수 있었다.
가교시켜 제조 한 필름의 열적 특성은 유리 전이 온도가 182 P 인 폴리설폰에 비해 치환양이 많아짐에 따라 207~252℃까지 향상되는 결과를 나타내었다. 상온 ~150℃ 범위에서의 열팽창계수(CTE)를 측정한 결과, 열팽창율이 15% 감소한 우수한 결과를 나타내었다. 또한 아믹산/ 이미드 곁사슬로 가교된 각각의 필름은 haze 값이 1.
각각의 제조한 필름을 LCD를 제조하는 공정에서 사용되는 각각의 용제에 상온에서 24시간 침적시킨 후 필름의 상태를 확인하여 그 결과를 Table 3에 나타내었다. 아믹산 곁사슬가 도입되면서 인접 폴리설폰 사슬끼리 의 결합이 일어나면 가교에 의해 일반적인 유기용매에 용해되지 않고 팽윤만 일어날 것으로 예상되나 아막산 상태에서는 DMAc 용매하에서 용해된 상태로 유지가 되나 가열에 의해 일부가 이미드기로 변환되면 서 DMSQNMP 등 용매에도 용해되지 않는 가교특성을 나타냈다.
곁사슬의 가교 화합물의 양이 도입됨으로써 열팽창율이 감소하는 것을 확인하였다. 일반적으로 가교기의 함량이 증가함에 따라 열팽창율이 감소하는 경향을 보이나 PSF에 광경화성기를 도입한 경우 3%를 함유시킨 경우보다는 9%를 함유한 경우 열팽창율이 감소하 나 18%를 함유한 경우에도 미미한 변화를 보였고 아믹산/이미드 곁사슬을 도입한 경우에도 이와 같은 경향을 나타내고 있음을 확인할 수 있었다.3그러나 이에 대한 연구는 향후 면밀히 검토할 예정이다.
일반적으로 가교기의 함량이 증가함에 따라 열팽창율이 감소하는 경향을 보이나 PSF에 광경화성기를 도입한 경우 3%를 함유시킨 경우보다는 9%를 함유한 경우 열팽창율이 감소하 나 18%를 함유한 경우에도 미미한 변화를 보였고 아믹산/이미드 곁사슬을 도입한 경우에도 이와 같은 경향을 나타내고 있음을 확인할 수 있었다.3그러나 이에 대한 연구는 향후 면밀히 검토할 예정이다.
각각 제조된 필름은 모듈 공정에서 사용되는 MeOH, THF, DMSQ NMP 등의 유기 용매에 불용성인 내화학성이 향상된 특성을 나타내었다. 필름의 가교 특성은 이미드 곁사슬기의 증가에 따른 가교밀도를 측 정해야 하나 이에 대한 연구는 향후 진행할 예정이다. 가교시켜 제조 한 필름의 열적 특성은 유리 전이 온도가 182 P 인 폴리설폰에 비해 치환양이 많아짐에 따라 207~252℃까지 향상되는 결과를 나타내었다.
참고문헌 (15)
A. Warshawsky, N. Kahana, A. Deshe, H. Gottlieb, and R. E. Aradyellin, J. Polym. Sci.; Part A: Polym. Chem., 28, 2885 (1990)
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