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탐침형 정보 저장장치에 응용 가능한 강유전체 물질의 특성 연구
Properties of Ferroelectric Materials Applicable to Nano-storage Media 원문보기

韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.15 no.2, 2006년, pp.173 - 179  

최진식 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  김진수 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  황인록 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  변익수 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  김수홍 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  전상호 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  이진호 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  홍사환 (건국대학교 이과대학 물리학과) ,  박배호 (건국대학교 이과대학 물리학과)

초록
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Pulsed laser deposition 방법으로 증착한 $PbZr_{0.3}Ti_{0.7}O_{3}$ (PZT)박막의 구조적, 전기적 성질에 대한 연구를 하였다. PZT 박막은 $LaAlO_3$ 기판위에 동일한 조건으로 증착된 $LaMnO_3$ (LMO) 산화물을 하부 전극으로 하여 증착시간을 변화시키며 증착하였다. High-resolution x-ray diffraction 결과를 통해 LMO 하부 전극과 PZT 박막이 방향성 있게 자란 것을 확인할 수 있었고 박막의 두께는 field-emission scanning electron microscope을 통하여 측정할 수 있었다. 또한 우리는 atomic force microscopy을 이용하여 박막의 표면 거칠기를 구하였고 국소적인 범위의 전기적 특성은 piezoelectric force microscopy 모드를 이용하여 측정하였다. 그 결과 PZT/LMO 구조는 나노 스토리지의 미디어로 쓰이기 위해 필요한 성질들을 갖추었음을 알 수 있었다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We have investigated structural and electrical properties of $PbZr_{0.3}Ti_{0.7}O_{3}$ (PZT) thin films deposited by pulsed laser deposition methods. PZT thin films have been deposited on $LaMnO_3$ (LMO) bottom electrodes with $LaAlO_3$ (LAO) substrates during differ...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • Lai-xSrxCoO3 (LSCO) [3], RuO2 [4], LaNiO3 [5], Pb2Ru2O7_x [6], IrO2 [7], and YBa2Cu3O7 [8] 와 같은 전도성 산화물 전극을 사용해 방향성 있게 증착한 박막들은 PZT의 정보의 안정성을 높이는데 큰 기여를 하였다. 본 연구에서는 이와 같은 정보들을 바탕으로 탐침형 정보 저장장치의 미디어로 산화물 전극 LaMnOa (LMO) 를 이용하여 방향성 있는 PZT를 증착하였고 물리적 전기적 특성을 측정하여 적용 가능성을 보여주고자 한다.
  • 이 논문에서는 탐침형 정보 저장장치의 미디어로 응용할 수 있는 강 유전 박막을 증착하고 강유전 미디어로 사용이 가능한가를 물리적 전기적 특성의 측정을 통해 알아보았다.
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참고문헌 (10)

  1. C. A. Araujo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott, and J. F. Scott, Nature 374, 627 (1995) 

  2. B. H. Park, B. S. Kang, S. D. Bu, T. W. Noh, J. Lee, and W. Jo, Nature 401, 682 (1999) 

  3. J. Yin, T. Zhu, Z. G. Liu, and T. Yu, Appl. Phys. Lett. 75, 3698 (1999) 

  4. H. N. Al-Shareef, K. R. Bellur, A. I. Kingon, and O. Auciello, Appl. Phys. Lett. 66, 239 (1995) 

  5. J. W. Hong, W. Jo, D. C. Kim, S. M. Cho, H. J. Nam, H. M. Lee, and J. U. Bu, Appl. Phys. Lett. 75, 3183 (1999) 

  6. Sung-Nam Ryoo, Soon-Gil Yoon, and Seung-Hyun Kim, Appl. Phys. Lett. 83, 2880 (2003) 

  7. Dongmin Jang, Jinhee Heo, Insook Yi, and Ilsub Chung, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 6739 (2002) 

  8. R. Ramech, W. K. Chan, B. Wilkens, H. Gilchrist, T. Sands, J. M. Tarascon, V. G. Keramidas, D. K. Fork, J. Lee, and A. Safari, Appl. Phys. Lett. 61, 1537 (1992) 

  9. J. S. Choi, J. S. Kim, M. J. Park, and B. H. Park, J. Korean Phys. Soc. 46, 180 (2005) 

  10. B. D. Cullity, Elements of X-RAY DIFFRACTION, 2nd ed. (Addison Wesley Publishing Company, 1978), pp. 350-368 

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