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C-축 배향된 ZnO 박막을 이용하여 제작한 압전형 마이크로 스피커의 특성 평가
Characterization of Piezoelectric Microspeaker Fabricated with C-axis Oriented ZnO Thin Film 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.19 no.6, 2006년, pp.531 - 537  

이승환 (국립 충주대학교 기계공학과, 친환경 에너지 변환.저장소재 및 부품개발 연구센터) ,  서경원 (국립 충주대학교 기계공학과, 친환경 에너지 변환.저장소재 및 부품개발 연구센터) ,  유금표 (고려대학교 제어계측공학과) ,  권순용 (국립 충주대학교 신소재공학과, 친환경 에너지 변환.저장소재 및 부품개발 연구센터)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

A micromachined piezoelectric microspeaker was fabricated with a highly c-axis oriented ZnO thin film on a silicon-nitride film having compressive residual stress. When it was measured 3 mm away from the microspeaker in open field, the largest sound pressure level produced by the fabricated microspe...

주제어

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문제 정의

  • 본 논문에서는 기존 압전형 스피커의 단점인 낮은 음압특성을 보완하기 위하여 다이어프램 물질로 압축 잔류 응력을 지닌 실리콘 질화막과 고품질의 ZnO 박막을 이용하여 압전형 스피커를 제작하였으며, 그 출력 음압특성을 확인하였다. 또한 기존의 전동형 스피커와 음압특성을 비교 평가함으로써 차세대 음향소자로서의 가능성을 확인하고자 하였다.
  • 특히 A1N 박막을 이용하여 FBAR (film bulk acoustic resonator)가 상용화된 이후, A1N 박막보다도 우수한 압전계수 및 전기 기계결합계수를 지닌 ZnO 박막의 특성을 이용한 FBAR의제작을 위하여 ZnO 박막의 공정 조건 변화에 따른 특성 향상[12] 및 ZnO 박막을 이용한 FBAR 제작을 위한 연구는 더욱 가속화되고 있다[13]. 논문에서는 기존 압전형 스피커의 단점인 낮은 음압특성을 보완하기 위하여 다이어프램 물질로 압축 잔류 응력을 지닌 실리콘 질화막과 고품질의 ZnO 박막을 이용하여 압전형 스피커를 제작하였으며, 그 출력 음압특성을 확인하였다. 또한 기존의 전동형 스피커와 음압특성을 비교 평가함으로써 차세대 음향소자로서의 가능성을 확인하고자 하였다.
  • 있다. 이러한 단점을 보완하고 새로운 개념의 MEMS 스피커의 제작을 위하여 상용화된 전동 형의 스피커에 대한 기본적인 개념을 살펴보았다. 그림 1은 상용화된 전동형 스피커의 외형을 나타낸 것이다.
  • 또한 압축 응력을 지닌 다이어프램을 사용함으로써 압전형 마이크로스피커의 능동 영역은 다이어프램 물질, 압전박막 및 전극 물질의 잔류응력의 조합에 의하여 평탄하게 유지시키면서도, 능동 영역 외부는 압축응력으로 인해 주름진 구조를 형성하게 함으로써 전체 다이어프램의 진폭을 크게 유도할 수 있는 구조를 제안할 수 있었다. 한편 상용 스피커와의 비교 평가에서도 알 수 있듯이 제작한 스피커의 출력 음압 특성은 낮았으나, 차세대 휴대폰에서 요구하고 있는 초박형스피커의 구현 가능성을 본 연구를 통하여 제시할 수 있었다.

가설 설정

  • 제작, (b) 압축 다이어프램 위에 제작.
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참고문헌 (16)

  1. R. Melamud, A. A. Davenport, G. C. Hill, I. H. Chan, F. Declercq, P. G. Hartwell, and B. L. Pruitt, 'Development of an SU-8 Fabry-Perot blood pressure sensor', The 18th IEEE International Conf. on Micro Electro Mechanical Systems, p. 810, 2005 

  2. E. S. Kim and R. S. Muller, 'IC-processed piezoelectric microphone', IEEE Electron Device Letters, Vol. 8, No. 10, p. 467, 1987 

  3. W. Kuhnel and G. Hess, 'Micromachined subminiature condenser microphones in silicon', Sensors and Actuators, Vol. A32, p. 560, 1992 

  4. Brett M. Diamond, J. J. Neumann, and K. J. Gabriel, 'Digital sound reconstruction using arrays of CMOS-MEMS microspeakers', The 15th IEEE International Conf. on Micro Electro Mechanical Systems, p. 292, 2002 

  5. E. S. Kim, R. S. Muller, and P. R. Gray, 'Integrated microphone with CMOS circuits on a single chip', IEEE International Electron Meeting, p. 880, 1989 

  6. R. P. Ried, E. S. Kim, D. M. Hong, and R. S. Muller, 'Piezoelectric microphone with on-chip CMOS circuits', IEEE/ASME Journal of Microelectromechanical Systems, Vol. 2, p. 111, 1993 

  7. S. S. Lee, R. P. Ried, and R. M. White, 'Piezoelectric cantilever microphone and microspeaker', Journal of Microelectromechanical Systems, Vol. 5, No.4, p. 238, 1996 

  8. G. M. Sessler, 'Silicon microphones', J. Audio Eng. Soc., Vol. 44, No. 1/2, p. 16, 1996 

  9. M. A. Harradine, T. S. Birch, J. C. Stevens, and C. Shearwood, 'A micromachined loudspeaker for the hearing impaired', Transducers '97, International conference on Solid-state sensors and actuators, Technical Digest, Vol. 1, p. 429, 1997 

  10. 홍광준, '펄스 레이저 증착 (PLD) 법에 의한 ZnO 박막 성장과 열처리 효과', 전기전자재료학회논문지, 17권, 5호, p. 467, 2004 

  11. 공보현, 박태은, 조형균, '합성절차에 따른 1차원 ZnO 나노구조의 형태조절과 특성평가', 전기전자재료학회논문지, 19권, 1호, p. 13, 2006 

  12. S. H. Choi and J. S. Kim, 'A study on the deposition characteristics of ZnO piezoelectric thin film bulk acoustic resonator', J. of KlEEME(in Korean), Vol. 16, No.8, p. 716, 2003 

  13. Y. H. Shin, S. J. Kwon, and H. J. Kim, 'Characteristics of ZnO thin film for SMR-typed FBAR fabrication', J. of KlEEME(in Korean), Vol. 18, No.2, p. 159, 2005 

  14. J. Brugger, G. Beljakovic, M. Despont, H. Biebuyck, N. F. de Rooji, and P. Vettiger, 'High-yield wafer chuck for single-sided wet etching MEMS structures', Transducers '97, International conference on Solid-state sensors and actuators, Technical Digest, Vol. 1, p. 711, 1997 

  15. F. J. von Preissig, H. Zeng, and E. S. Kim, 'Measurement of piezoelectric strength of ZnO thin films for MEMS applications', J. Smart Mater. Struct., Vol. 7, p. 396, 1998 

  16. S. H. Park, B. C. Sea, G. W. Yoon, and H. D. Park, 'Two-step deposition process of piezoelectric ZnO film and its application for film acoustic resonators', J. Vac. Sci. Technol. A, Val. 18, p. 2432, 2000 

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