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PES 기판상에 증착된 AZO 박막의 특성
Properties of AZO Thin Film deposited on the PES Substrate 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.20 no.12, 2007년, pp.1072 - 1076  

김상모 (경원대학교 전기공학과) ,  김경환 (경원대학교 전기공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We prepared the Al doped ZnO (AZO) thin film on polyethersulfon (PES) without any substrate heating by Facing Targets Sputtering (FTS) system. FTS system has two different facing targets. One is ZnO doped the content of Al 2 wt% and the other is Zn in order to decrease resistivity. The electrical, s...

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제안 방법

  • 것이다. FTS 장치는 기판과 타겟이 마주보고 있는 기존의 스퍼터링 장치와는 달리 두 개의 타겟이 서로 마주 보게 하고, 뒷면에는 영구자석을 장착하여 플라즈마를 이곳에 생성시켰다. 그리고 기판은 두 타겟사이의 중심에서 수직한 곳에 위치하여 박막을 증착시겼다.
  • FTS 장치는 기판과 타겟이 마주보고 있는 기존의 스퍼터링 장치와는 달리 두 개의 타겟이 서로 마주 보게 하고, 뒷면에는 영구자석을 장착하여 플라즈마를 이곳에 생성시켰다. 그리고 기판은 두 타겟사이의 중심에서 수직한 곳에 위치하여 박막을 증착시겼다. FTS의 양 타겟의 뒷면에 장착된 영구자석의 자계는 타겟 표면에 수직하게 분포하고, 플라즈마내의 하전입자를 효율적으로 구속할 수 있다.
  • 대체할 물질로 각광 받고 있는 AZ。제작하여 전기적, 광학적 특성을 조사하였다[8, 9
  • 동안 건조하여 준비하였다. 박막 증착 공정을 시작하기에 앞서 타겟 표면의 불순물을 제거하고 안정적인 스터퍼팅을 위하여, 10분간 공정압력 1 mTorr, Ar 가스 분위기에서 pre-sputtering을 하였다. 자세한 AZO 박막의 스퍼터링 조건은 표 1에 나타내었다.
  • 본 연구는 실온에서 대향 타겟식 스퍼터링 장치를 이용하여 Polyethersulphone (PES) 기판위에 ZnO:Al 박막을 증착하여 다음과 같은 결론을 얻을 수 있었다.
  • 스퍼터 조건으로 아르곤과 산소의 혼합 가스를 사용하여 투입전력 150 W, 200 W일 때 각각 산소 가스의 유량비를 0.1-0.4로 변화시킴으로써 결과를 고찰하였다. 제작된 박막은 투입전력에 상관없이 산소 가스 유량비가 0.
  • 제작된 박막은 막의 두께는 a-step (Tencor), 비저항은 four-point prove (Chang-min) 즉정하였고, 결정학적, 전기적, 광학적 특성은 XRD (Rigaku), UV-VIS spectrometer (HP), Hall effect measurement system (ECOPIA)을 이용하여 조사하였다.

대상 데이터

  • 실험에 사용된 PES 기판은 PC, PET 기판과 함께 대표적인 고분자 기판으로 널리 쓰이고 있다. PES 기판은 유리 기판과 비교해 볼 때 두께가 200 um로 매우 얇고 가벼우며, 유연한 특징을 가지고 있어.
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참고문헌 (10)

  1. Y. Igasaki and H. Saito, 'The effects of zinc diffusion on the electrical and optical properties of ZnO:AI films prepared by r.f. reactive sputtering', Journal of Applied Physics, Vol. 199, No.2, p. 223, 1991 

  2. 조범진, 김경환, 'PC 기판상에 제작된 ITO 박막의 특성', 전기전자재료학회논문지, 20권, 2호, p. 162, 2007 

  3. 김건희, 금민종, 김한기, 손인환, 장경욱, 이원재, 박용서, 최형욱, 김경환, 'FTS법을 이용한 ITO박막의 제작', 전기전자재료학회논문지, 17권, 11호, p. 1230, 2004 

  4. 금민종, 김경환, '스퍼터링법을 이용한 OLED용 Al 음전극 제작', 전기전자재료학회논문지, 18권, 8호, p. 729, 2005 

  5. J. S. Yang, H. Y. Seong, M. J. Keum, J. H. Son, and K. H. Kim, 'Preparation of transparent conductive thin films by facing targets sputtering system', Surface and Coatings Technology, Vol. 169-170, p. 575, 2003 

  6. K. H. Kim, 'The preparation of indium tin oxide films as a function of oxygen gas flow rate by a facing target sputtering system', Joural of Ceramic Processing Research, Vol. 8, No.1, p. 19, 2007 

  7. M. J. Keum, B. J. Cho, H W. Choi, S. J. Park, and K. H. Kim, 'Preparation of Al doped ZnO thin films as a function of substrate temperature by a facing target sputtering system', Joural of Ceramic Processing Research, Vol. 8, No.1, p. 56, 2007 

  8. K. H. Kim, I. H. Son, K. B. Song, S. H. Kong, M. J. Keum, S. Nakagawa, and M. Naoe, 'Thin film properties by facing targets sputtering system', Applied Surface Science, Vol. 169-170, p. 410, 2001 

  9. A. Y. Igasaki and H. Kanma, 'Argon gas pressure dependence of the properties of transparent conducting ZnO:Al films deposited on glass substrates', Applied Surface Science, Vol. 169-170, p. 508, 2001 

  10. A. P. Roth, J. B. Webb, and D. F. Williams, 'Absorption edge shift in ZnO thin films at high carrier densities', Solid State Communications, Vol. 39, p. 1269, 1981 

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