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제안 방법
- 0M 의 질산을 이용하여 처리하였다. 표면 처리된 활성탄에는 carboxylic group이나 lactonic group과 같은 산소 작용기의 영향으로 양이온 금속과의 이온 교환성능이 향상되었고, " 여기에 코발트나 아연금속을 침적시킨 후 이들에 의한 페놀 흡착용량과 흡착속도를 금속이 침적되지 않은 활성탄과 비교 분석하였다.
- 선행연구에서 Cu, Ag 등과 같은 금속을 활성탄에 후 처리하여 흡착특성, 표면특성 및 항균 특성을 연구 제시한 바, 금속 침적처리된 활성탄은 산업용이나 군사용으로 유해가스를 흡착시키거나 항균성을 부여하는데 이용되고 있다.&9 이에 본 연구에서는 독성 유기물질인 페놀흡착을 증진시키기 위하여 선행연구에서 사용된 질산표면처리 방법을 사용 하였다 이 방법은 입상활성탄(GAC)의 표면을 양이온 교환성능이 우수한 표면상태로 활성화시키는 방법으로써 1.0M 의 질산을 이용하여 처리하였다. 표면 처리된 활성탄에는 carboxylic group이나 lactonic group과 같은 산소 작용기의 영향으로 양이온 금속과의 이온 교환성능이 향상되었고, " 여기에 코발트나 아연금속을 침적시킨 후 이들에 의한 페놀 흡착용량과 흡착속도를 금속이 침적되지 않은 활성탄과 비교 분석하였다.
- GAC와 금속처리한 GAC를 비표면적 측정장치 Autosorb-3B(Quantachrome, USA)를 사용하였는데, 600K에서 잔류압력을 10-3 torr 이하로 유지한 상태로 약 12시간 동안 탈기시킨 후 77K에서의 질소 흡탈착등온선으로부터 비표면적 (Sbet), 총세공부피 (Vp) 등을 계산하였다. 또한, 금속 침적 처리전후의 입상 활성탄 표면은 주사전자현미경 (SEM, Scanning Electron Microscope, VEGA-11 LMU, Czech)을 이용하여 관찰하였다.
- 또한, 금속 침적 처리전후의 입상 활성탄 표면은 주사전자현미경 (SEM, Scanning Electron Microscope, VEGA-11 LMU, Czech)을 이용하여 관찰하였다.
- 흡착시간은 초기 5분동안은 1 분 간격으로 측정한 다음, 20분(혹은 1O분) 간격으로 240분까지 조정하였다. 용액중 남아있는 페놀의 농도는 분광광도계(Jasco V-550, Japan)를 이용하여 268 nm에서 흡광도를 측정하여 미리 작성된 검량곡선으로부터 구하였다.
대상 데이터
- 본 실험에 사용된 GAG;? 일본 약리화학사의 시약 급 제품을 사용하였다. 이 GAC 50 g을 산으로 전 처리하기 위하여 1.
- 본 실험에 사용된 GAG;? 일본 약리화학사의 시약 급 제품을 사용하였다. 이 GAC 50 g을 산으로 전 처리하기 위하여 1.
이론/모형
- 요오드 흡착 및 메틸렌블루 탈색 시험은 한국공업규격, 활성탄 시험방법 %KS M1802)에 준하여 시험하였다.
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