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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.45 no.5, 2012년, pp.206 - 211
Process analysis was carried out during deposition of MgO by inductively coupled plasma assisted reactive magnetron sputtering in Ar and
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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ionized PVD법의 장점은? | 본 연구에서는 PC를 기반으로 하는 데이터 수집 시스템을 이용하여 정밀한 절대 압력 측정과 부분압을 측정할 수 있는 사중극자 질량 분석기를 이용하여 전체 압력의 변화를 유발하는 원인 가스를 여러 가지 플라즈마 운용 조건에서 분석하였다. 유도결합 플라즈마를 이용한 이온화 물리증착법(ionized PVD)은 Yamashita1), Rossnagel2) 등이 사용하기 시작하여 보급된 방법으로 간단한 구조와 높은 플라즈마 밀도를 얻을 수 있는 장점이 있다. Mg을 직접 증발 시키면서 유도결합 플라즈마를 이용한 보조 반응으로 MgO를 증착한 보고도 있으나3,4) 대면적화 및 안정적인 공정 운용에 대한 성공적인 사례는 아직 없으므로 현재에는 마그네트론 스퍼터링을 근간으로 한 방법이 대면적화 및 안정적인 공정 운용에 적합한 방법으로 생각된다. | |
Ar 이외의 방출량이 ICP 전력에 따라 증가하거나 정비례하지 않음이 의미하는 것은? | 고밀도 유도 결합 플라즈마를 이용한 양극성 펄스 직류 반응성 스퍼터링 장치에서 반응성 가스의 유량 및 두 가지 플라즈마원(양극성 펄스 직류 및 유도 결합 플라즈마)의 동작에 따른 전체 압력의 변화를 고정밀 Baratron 게이지로 측정하였고, 그 결과, 방전 개시 후 유도 결합 플라즈마의 전력에 비례하여 압력의 증가 피크가 관찰되고 시간에 대한 압력의 적분에서 구해진 공정 가스인 Ar 이외의 방출량은 ICP 전력에 따라 증가하나 정비례하지는 않는다. 이는 ICP 전력의 가스에 대한 전달 기구에 손실이 존재함을 의미한다. | |
마그네트론 스퍼터링으로 박막을 제작할 때에 압력에 변화를 미치는 현상에는 어떠한 것들이 있는가? | 마그네트론 스퍼터링으로 박막을 제작할 때에 플라즈마에 의한 여러 가지 현상(이온과 전자의 챔버 벽면 충돌에 의한 탈착, 가열, 자외선 발생과 이에 의한 가스 탈착, 분자 가스의 해리에 의한 압력 변화, 반응성 가스의 흡착과 화학반응에 의한 가스 소모성 압력 변화, 가스 입자들의 속도 증가로 인한 배기속도 향상)으로 압력에 변화가 오게 된다. 상용 반도체나 디스플레이 장비에서는 피드백 시스템을 이용하여 일정한 압력으로 유지하고 있는데 이것이 실제 시스템 내에서 발생하고 있는 물리, 화학적 변화를 알아채기 어렵게 하고 있다. |
M. Yamashita, J. Vac. Sci. Technol A, 7 (1989) 151.
S. M. Rossnagel, J. Hopwood, J. Vac. Sci. Technol. B, 12 (1994) 449.
Y. H. Han, S. J. Jung, J. J. Lee, J. H. Joo, Surf. and Coatings Technol., 174-175 (2003) 235.
D. H. Kang, D. K. Lee, K. B. Kim, J.-J. Lee, J. H. Joo, Appl. Phys. Lett., 84 (2004) 3283.
S. H. Kim, J. H. Joo, S. Y. Lee, K. W. Lee, S. J. Oh, J. Kor. Inst. Surf. Eng., 37 (2004) 185.
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J. H. Joo, J. Vac. Sci. Technol. A, 18 (2000) 2006.
Y. Matsuda, Y. Koyama, K. Tashiro, H. Fujiyama, Thin Solid Films, 435 (2003) 154.
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