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촉매를 이용한 반도체 공정 SF6 처리에 관한 연구
Catalytic Decomposition of SF6 from Semiconductor Manufacturing Process 원문보기

Journal of environmental science international = 한국환경과학회지, v.22 no.8, 2013년, pp.1019 - 1027  

황철원 ((주)코아에프앤티) ,  최금찬 (동아대학교 환경공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Sulfur hexa-fluoride has been used as a etching gas in semiconductor industry. From the globally environmental issues, it is urgent to control the emissions of this significant greenhouse gas. The main objective of this experimental investigation was to find the effective catalyst for $SF_6$

주제어

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문제 정의

  • 반도체 분야 배출 SF6 가스의 촉매분해 기술은 국내를 포함하여 전 세계적으로 소규모 장치에 일부 상용화되어 있는 상태이나, 최근 신규 반도체 생산라인에서는 여러 곳에서 배출되는 SF6 가스를 한 곳으로 포집하여 대단위로 처리할 수 있도록 공정을 설계하고 있는 상황에 있기 때문에 향후에는 SF6의 대용량 처리 기술의 개발이 필요하며, 이에 본 연구에서는 반도체 공정에서 배출되는 온실가스인 SF6의 고효율 및 대용량 처리를 위한 친환경 통합 하이브리드 시스템(전처리+전자빔+촉매분해+후처리)의 개발을 위한 기초단계 연구로써 촉매 활성과 내구성이 뛰어난 촉매를 개발하기 위한 연구를 수행하였다. 촉매를 이용한 SF6의 처리에서도 가장 문제가 되는 것이 촉매의 내구성이므로 본 연구에서는 열적 내구성이 우수한 헥사알루미네이트(hexa-aluminate) 전구체를 제조하여 SF6 처리 촉매로서의 적용 가능성을 평가하였다.
  • 본 연구에서는 반도체 공정에서 배출되는 온실가스인 SF6의 고효율 및 대용량 처리를 위한 친환경 통합 하이브리드 시스템의 개발을 위한 기초단계 연구로서, 촉매 활성과 내구성이 뛰어난 촉매를 개발하기 위한 연구를 수행하였다. 침전법을 이용하여 헥사알루미네이트 전구체와 헥사알루미네이트 전구체 촉매에 Ni가 치환된 촉매를 제조하였으며, 모의가스를 이용한 SF6 처리 실험과 촉매의 특성 분석을 통해 다음과 같은 결론을 얻었다.
  • 의 고효율 및 대용량 처리를 위한 친환경 통합 하이브리드 시스템(전처리+전자빔+촉매분해+후처리)의 개발을 위한 기초단계 연구로써 촉매 활성과 내구성이 뛰어난 촉매를 개발하기 위한 연구를 수행하였다. 촉매를 이용한 SF6의 처리에서도 가장 문제가 되는 것이 촉매의 내구성이므로 본 연구에서는 열적 내구성이 우수한 헥사알루미네이트(hexa-aluminate) 전구체를 제조하여 SF6 처리 촉매로서의 적용 가능성을 평가하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
촉매 분해법의 장점은? SF6 가스의 저감 및 제거를 위해 회수 재이용 기술, 처리 기술, 공정의 최적화, 대체가스 개발 등 다양한 접근방법을 시도하고 있으며, SF6 처리 기술은 PSA와 분리막을 이용한 분리회수 분야와 플라즈마, 연소 및 촉매를 이용한 분해제거 분야로 분류할 수 있다(Tsai 등, 2002). 촉매 분해법은 난분해성인 SF6를 촉매를 사용하여 800℃이하의 낮은 온도에서 분해하는 기술로 운전비 감소 및 시스템의 내구성 확보가 용이해진다는 장점과 배가스 중에 존재하는 N2로부터 기인되는 thermal NOx의 발생을 억제할 수 있다는 장점을 갖고 있다(Park 등, 2004).
SF6 처리 기술 어떻게 분류할 수 있는가? 반도체 공정에서 배출되는 SF6 가스는 지구온난화라는 심각한 문제를 야기하기 때문에 사용 규제가 점점 심각해 질 것이 예상되므로 이에 대한 제어기술 개발의 중요성은 더욱더 증가되고 있다. SF6 가스의 저감 및 제거를 위해 회수 재이용 기술, 처리 기술, 공정의 최적화, 대체가스 개발 등 다양한 접근방법을 시도하고 있으며, SF6 처리 기술은 PSA와 분리막을 이용한 분리회수 분야와 플라즈마, 연소 및 촉매를 이용한 분해제거 분야로 분류할 수 있다(Tsai 등, 2002). 촉매 분해법은 난분해성인 SF6를 촉매를 사용하여 800℃이하의 낮은 온도에서 분해하는 기술로 운전비 감소 및 시스템의 내구성 확보가 용이해진다는 장점과 배가스 중에 존재하는 N2로부터 기인되는 thermal NOx의 발생을 억제할 수 있다는 장점을 갖고 있다(Park 등, 2004).
침전법을 이용하여 헥사알루미네이트 전구체와 헥사알루미네이트 전구체 촉매에 Ni가 치환된 촉매를 제조하고, 모의가스를 이용한 SF6 처리 실험과 촉매의 특성 분석을 통해 얻은 결론은? 1) Ni의 첨가량이 질량비로 0, 2, 6, 10 wt%가 첨가된 촉매의 SF6 전환율 실험에서 Ni의 첨가량이 증가함에 따라 SF6의 전환율이 증가함을 알 수 있으며, Ni를 첨가하지 않은 BaMnAl11O19 헥사알루미네이트 전구체 촉매의 경우 상대적으로 촉매의 활성이 낮음을 알 수 있었다. 2) 반응 온도에 따른 SF6의 전환율 평가에서 Ni의 첨가량에 관계없이 600℃이하의 온도에서는 낮은 SF6 전환율을 나타내었으며, Ni 첨가 촉매의 경우 650℃이상의 온도에서 높은 SF6 전환율을 나타내었다. 상대적으로 Ni 첨가량 6 wt% 촉매의 활성이 10 wt% 촉매보다 우수하였으며, 이는 최적의 Ni 첨가량이 존재함을 의미한다. 3) Ni의 첨가에 따른 내구성능 개선 가능성을 평가하기 위해 동일조건에서 수행한 내구성능 평가에서 Ni를 첨가하지 않은 BaMnAl11O19 헥사알루미네이트 전구체 촉매(0 wt% 촉매)보다 Ni를 6 wt% 첨가한 촉매(6 wt% 촉매)가내구성능이 우수함을 나타내었다. 4) Ni 0 wt%, 6 wt% 첨가 촉매의 650℃, 1200℃소성 후 XRD 분석 결과, 0 wt% 첨가 촉매의 경우 헥사알루미네이트 전구체 촉매를 주성분으로 하고 일부 비결정성의 알루미나가 포함된 것으로 확인되었으며, 6 wt% 첨가 촉매의 경우 헥사알루미네이트 전구체 촉매와 γ-Al2O3가 공존하는 것으로 확인되었다. 5) 내구성능 평가 전․후 촉매의 비표면적 분석에서 Ni 6 wt% 촉매가 0 wt% 촉매보다 비표면적 감소율이 낮게 나타났으며, 0 wt% 첨가 촉매와 6 wt% 첨가 촉매의 내구성능 평가 후 XRD 패턴에서 두 촉매 모두 α-Al2O3의 생성이 확인되었으나 α-Al2O3의 최대 피크 강도는 6 wt% 촉매가 낮게 나타났으며 6 wt% 첨가 촉매의 경우 내구성능 평가 후에도 γ-Al2O3의 피크를 유지하였다. 6) 헥사알루미네이트 전구체 촉매와 Ni 첨가 촉매의 활성 및 특성 분석 결과 헥사알루미네이트 전구체에 Ni를 첨가한 촉매가 촉매 활성과 내구성능이 우수하였으며, 촉매의 개선 및 최적화를 통해 SF6 처리 촉매로 적용이 가능할 것으로 판단된다.
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참고문헌 (8)

  1. Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology 5 142 1995 

  2. Solid State Technology 44 189 2001 

  3. Catalysis Today 90 283 2004 10.1016/j.cattod.2004.04.039 

  4. Journal of Colloid and Interface Science 332 136 2009 10.1016/j.jcis.2008.12.003 

  5. Ind. Eng. Chem. Res. 48 632 2009 10.1021/ie8001099 

  6. Clean technology 15 273 2009 

  7. Korean Chemical Engineering Research 45 209 2007 

  8. Journal of Loss Prevention in the Process Industries 15 65 2002 10.1016/S0950-4230(01)00067-5 

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