$\require{mediawiki-texvc}$
  • 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"
쳇봇 이모티콘
안녕하세요!
ScienceON 챗봇입니다.
궁금한 것은 저에게 물어봐주세요.

논문 상세정보

이중 주파수 전원의 용량성 결합 플라즈마 식각장비에서 전극하전에 의한 입사이온 에너지분포 변화연구

Electrode Charging Effect on Ion Energy Distribution of Dual-Frequency Driven Capacitively Coupled Plasma Etcher

Abstract

The effect of electrode charging on the ion energy distribution (IED) was investigated in the dual-frequency capacitively coupled plasma source which was powered of 100 MHz RF at the top electrode and 400 kHz bias on the bottom electrode. The charging property was analyzed with the distortion of the measured current and voltage waveforms. The capacitance and the resistance of electrode sheath can change the property of ion and electron charging on the electrode so it is sensitive to the plasma density which is controlled by the main power. The ion energy distribution was estimated by equivalent circuit model, being compared with the measured distribution obtained from the ion energy analyzer. Results show that the low frequency bias power changes effectively the low energy population of ion in the energy distribution.

참고문헌 (12)

  1. H.H. Goto, H.-D. Lowe, T. Ohmi, IEEE Trans. Semicond. Manuf., Vol.6, pp58-64, 1993. 
  2. H.C. Kim, Journal of KSDET, Vol.4, No.2, pp.11-14, 2005. 
  3. R. Tsui, Phys. Rev., Vol.168, pp.107-108, 1968. 
  4. E. Kawamura, V. Vahedi, Plasma Sources Sci. Technol., Vol.8, pp.R45-R64, 1999. 
  5. R. Farouki, S. Hamaguchi, M. Dalvie, Phys. Rev. A., Vol.45, pp.5913-5929, 1992. 
  6. P. Benoit-Cattin, J. Appl. Phys., Vol.39, pp.5723, 1968. 
  7. J.W. Coburn, J. Appl. Phys., Vol.43, pp.4965, 1972. 
  8. A. Metze, D. Ernie, H. Oskam, J. Appl. Phys., Vol.60, pp.3081-3087, 1986. 
  9. S.-B. Wang, A. E. Wendt, J. Appl. Phys., Vol.88, pp.643-646, 2000. 
  10. S. Rauf, J. Appl. Phys., Vol.87, pp.7647-7651, 2000. 
  11. A. Agarwal, M.J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film., Vol.23, pp.1440-1449, 2005. 
  12. J.S. Han, J.P. McVittie, J. Zheng, J. Vac. Sci. Technol. B Microelectron. Nanom. Struct., Vol.13, pp.1893-1899, 1995. 

이 논문을 인용한 문헌 (1)

  1. Choi, Myung-Sun ; Jang, Yunchang ; Lee, Seok-Hwan ; Kim, Gon-Ho 2014. "Investigation of Spatial Distribution of Plasma Density between the Electrode and Lateral Wall of Narrow-gap CCP Source" 반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, 13(4): 1~5 

원문보기

원문 PDF 다운로드

  • ScienceON :

원문 URL 링크

  • 원문 URL 링크 정보가 존재하지 않습니다.

원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다. (원문복사서비스 안내 바로 가기)

상세조회 0건 원문조회 0건

DOI 인용 스타일