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NTIS 바로가기열처리공학회지 = Journal of the Korean society for heat treatment, v.27 no.4, 2014년, pp.175 - 179
김소영 (울산대학교 첨단소재공학부) , 김선경 (울산대학교 첨단소재공학부) , 김승홍 (울산대학교 첨단소재공학부) , 전재현 (울산대학교 첨단소재공학부) , 공태경 (울산대학교 첨단소재공학부) , 손동일 (동국실업주식회사) , 최동혁 (동국실업주식회사) , 김대일 (울산대학교 첨단소재공학부)
IGZO thin films were prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering on glass substrates and then annealed in vacuum for 30 minutes at 100, 200 and
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)과 저온 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 소자의 장단점은? | 최근 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)의 채널층 재료로 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)과 저온 다결정 실리콘(low temperature poly-Si, LTPS)이 활발히 적용되고 있다[1]. 이러한 a-Si TFT와 LTPS TFT 소자의 경우 공정이 간단하고, 낮은 단가, 대면적 표시소자 제조에 용이하였지만 고속동작을 요구하는 표시소자를 개발하기엔 이동도가 낮아 소자 신뢰성 확보에 어려움이 보고되었다[2, 3]. 이런 문제점을 해결하기 위한 산화물 반도체 물질을 이용한 TFT 소자는 a-Si TFT와 LTPS TFT가 가지지 못하는 장점들을 가지고 있어 차세대 디스플레이용 소자로 주목 받고 있다[4]. | |
최근 박막 트랜지스터의 채널층 재료로 무엇이 활발히 적용되고 있는가? | 최근 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)의 채널층 재료로 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)과 저온 다결정 실리콘(low temperature poly-Si, LTPS)이 활발히 적용되고 있다[1]. 이러한 a-Si TFT와 LTPS TFT 소자의 경우 공정이 간단하고, 낮은 단가, 대면적 표시소자 제조에 용이하였지만 고속동작을 요구하는 표시소자를 개발하기엔 이동도가 낮아 소자 신뢰성 확보에 어려움이 보고되었다[2, 3]. | |
산화물 TFT의 장점은? | 이런 문제점을 해결하기 위한 산화물 반도체 물질을 이용한 TFT 소자는 a-Si TFT와 LTPS TFT가 가지지 못하는 장점들을 가지고 있어 차세대 디스플레이용 소자로 주목 받고 있다[4]. 특히 산화물 TFT의 경우, 별도의 결정화나 도핑공정을 필요로 하지 않아 기판의 대형화가 가능하고, 동시에 우수한 이동도를 가짐으로서 노트북, AMOLED HDTV의 Back-plane으로 사용되기에 충분하다고 알려져 있다[5, 6]. |
K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano and H. Hosono : Nature, 432 (2004) 488-492.
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김재선 : AHP를 이용한 대형 Amoled Backplane 산화물 TFT 선정에 관한 연구, 성균관대학교 석사학위논문 (2013) 17-19.
김상훈 : 산화물 반도체 비정질 IGZO 박막의 전기, 광학적 특성 연구, 청주대학교 석사학위논문 (2011) 13-15.
Katsumi Abe, Ayumu Sato, Kenji Takahashi, Hideya Kumomi, Toshio Kamiya and Hideo Hosono : Thin Solid Films, 21 (2013).
D. I. Kim : J. of the Korean Society for Heat Treatment, 24 (2011) 199-202.
이학민 : Co-sputter법으로 제작된 IGZO 박막의 특성과 진공열처리에 따른 특성 변화, 울산대학교 석사학위논문 (2013) 20-23, 52-53.
박상희 : 화학세계, 디스플레이의 메가트랜드, 산화물(Oxide) TFT 기술 (2013).
허성보 : 전자빔 조사 에너지에 따른 $GZO/TiO_{2}$ 박막의 물성변화, 울산대학교 석사학위논문 (2013) 40-42.
D. Paul Joseph, P. Renugambal, M. Saravanan, S. Philip Raja and C. Venkateswaran : Thin Solid Films, 517 (2009) 6129-6136.
G. Haacke : J. Appl. Phys, 47 (1976) 4086.
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