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디스플레이 공정용 건식 식각 장비의 시뮬레이션 기술 원문보기

인포메이션 디스플레이 = Information display, v.16 no.6, 2015년, pp.22 - 28  

최희환 (한국항공대학교 항공전자정보공학부)

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문제 정의

  • 본 원고에서는 건식 식각 장비의 기본 구성과 원리 및 관련된 시뮬레이션 기술에 대해서 설명하고자 한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
산업에 활용되는 플라즈마를 구성하는 요소는 무엇이 있는가? 플라즈마를 구성하는 요소 중에서 하전입자와 여기종을 활용하여 산업에 활용하는 일들은 다양하게 이루어져 왔다. 그 중에서 반도체나 디스플레이 소자를 만드는 미세소자 산업에서는 플라즈마를 주로 증착, 식각, 이온 주입, 세정 등의 목적으로 사용해 왔다.
플라즈마는 반도체나 디스플레이 제조에서 무엇을 목적으로 사용되었나? 플라즈마를 구성하는 요소 중에서 하전입자와 여기종을 활용하여 산업에 활용하는 일들은 다양하게 이루어져 왔다. 그 중에서 반도체나 디스플레이 소자를 만드는 미세소자 산업에서는 플라즈마를 주로 증착, 식각, 이온 주입, 세정 등의 목적으로 사용해 왔다. 이러한 플라즈마의 특성을 이해하고 그 특성을 활용하여 본래의 목적을 이루는 것은 오랜 시간 노력되어져 왔으나, 소자의 특성이 바뀌고 장비의 특성이 바뀔때 마다 생기는 현상들을 전부 이해하기에는 아직도 부족한 점들이 많기 때문에, 항상 현상을 설명하기 위한 노력이 계속되고 있다.
디스플레이 소자의 경우 기판의 크기가 커짐에 따라 장비에 요구되는 최적에 공정을 찾이 어려운 이유는? 5세대 기판 사이즈의 경우 2940mm × 3370mm에 이른다. 이는 300mm Si 웨이퍼 면적과 비교하여 약 140배에 이른다. 이렇게 큰 면적에서 식각률, 선택비, 균일도 등의 공정 요건을 만족하는 장비의 설계와 구현은 매우 어려우며, 주어진 장비에서 최적의 공정 조건을 찾는 것 또한 매우 어렵다. 따라서 리소스를 최적화하기 위해서는 식각 공정에 사용되는 플라즈마에 대한 이해와 시뮬레이션 기법을 활용하는 것이 시간과 비용을 절감하며 실수를 줄이는 방법이 될 수 있다.
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참고문헌 (12)

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