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고온화학세정환경에서 20 % EDTA 용액이 결함 전열관 (Alloy600)에 미치는 영향
Effect of 20 % EDTA Aqueous Solution on Defective Tubes (Alloy600) in High Temperature Chemical Cleaning Environments 원문보기

Corrosion science and technology, v.15 no.2, 2016년, pp.84 - 91  

권혁철 (한국수력원자력(주) 중앙연구원)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The transport and deposition of corrosion products in pressurized water nuclear reactor (PWR) steam generators have led to corrosion (SCC, denting etc.) problems. Lancing, mechanical cleaning and chemical cleaning have been used to reduce these problems. The methods of lancing and mechanical cleanin...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 재료 건전성 평가의 일환으로 고온화학세정 환경에서 20 % EDTA 용액이 결함을 가지고 있는 증기발생기 전열관에 미치는 영향에 대해 평가를 수행하였다. EDTA는 증기발생기 내부 슬러지와 반응하지만 세정동안에 일부 EDTA는 증기발생기 구성 재료 (탄소강)와 반응을 한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
원전 운전 중 생성되는 침적되는 부식생성물의 단점은? 원전 운전 중, 2차계통 재료 부식으로 인해 생성된 산화물과 계통수 불순물은 급수를 통해 증기발생기로 유입·침적된다. 침적된 부식생성물 (이하 슬러지)은 불순물이 농축될 수 있는 환경을 제공할 뿐만 아니라 전열관 응력부식균열 (stress corrosion cracking: SCC), 덴팅 (denting) 등과 같은 문제를 일으킨다1). 뿐만 아니라 열 효율을 감소시키고 유로 틈새를 막음으로써 수위 불안정 현상도 유발한다. 이와 같은 문제를 해결하기 위해 원전에서는 주기적으로 관판상부 랜싱 (lancing), 관다발 상부 기계적인 세척, 관다발 화학세정을 수행하고 있다.
저온화학세정의 목적은? 5 %로 조절한다. 저온화학세정의 목적은 증기발생기 전열관과 전열관을 지지하고 있는 관지지판의 틈새에 침적된 슬러지를 제거함으로써 유로를 원활하게 하여 수위불안정을 해소하기 위함이다. 반면 고온화학세정은 세정 온도 93~121 ℃에서 EDTA 20 %, 방식제 1.
저온화학세정의 장점은? 저온화학세정은 약품농도와 온도가 낮을 뿐만 아니라 세정시간도 고온화학세정에 비해 상대적으로 짧기 때문에 세정으로 인한 재료 부식은 거의 없다 (< 1 mils). 반면, 고온화학세정은 약품농도와 온도가 높을 뿐만 아니라 세정시간도 길기 때문에 세정 동안에 재료 부식속도가 저온화학세정에 비해 상대적으로 높다.
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참고문헌 (5)

  1. EPRI NP-3009, C. S. Welty, Steam Generator Chemical Cleaning Process Development (1983). 

  2. ASTM E647, Standard Test Method for Measurement of Fatigue Crack Growth Rates, ASTM International (2013). 

  3. J. M. Lee, S. W. Kim, S. S. Hwang, H. P. Kim and H. D. Kim, Corros. Sci. Tech., 13, 114 (2014). 

  4. W. Y. Maeng, B. S. Choi, J. W. Yeon, D. W, Kang, H. B. Lee and C. S. Wang, Handbook of Water Chemistry in Nuclear Power Plant, Donghwae, KAERI (2009). 

  5. EPRI TR-107207, G. L. Key, Study on High Temperature Chemical Cleaning Tests and Applications (1996). 

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