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Simulation Research on the Thermal Effects in Dipolar Illuminated Lithography 원문보기

Journal of the Optical Society of Korea, v.20 no.2, 2016년, pp.251 - 256  

Yao, Changcheng (State Key Laboratory of Applied Optics, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Science) ,  Gong, Yan (State Key Laboratory of Applied Optics, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Science)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The prediction of thermal effects in lithography projection objective plays a significant role in the real-time dynamic compensation of thermal aberrations. For the illuminated lithography projection objective, this paper applies finite element analysis to get the temperature distribution, surface d...

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문제 정의

  • The simulation is meant to guide the researchers to make an assessment of the magnitude of thermal effects. The results in Fig.
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참고문헌 (14)

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  6. Y. Uehara, T. Matsuyama, T. Nakashima, Y. Ohmura, T. Ogata, and K. Suzuki, “Thermal aberration control for low-k1 lithography,” Proc. SPIE 6520, 65202V-1~65202V-11 (2007). 

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  13. SigFit Reference Manual, Version 2012R1d, Sigmadyne Inc., p. 127. 

  14. K. B. Doyle, V. L Genberg, and G. J. Michels, “Numerical methods to compute optical errors due to stress birefringence,” Proc. SPIE 34, 34-42 (2002). 

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