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AZO/Ni/SnO2 적층박막의 전기적, 광학적 특성 연구
A Study of Electrical and Optical Properties of AZO/Ni/SnO2 Tri-layer Films 원문보기

열처리공학회지 = Journal of the Korean society for heat treatment, v.30 no.1, 2017년, pp.13 - 16  

송영환 (울산대학교 첨단소재공학부) ,  차병철 (한국생산기술연구원 첨단제조공정그룹) ,  천주용 (한국생산기술연구원 첨단제조공정그룹) ,  엄태영 (울산대학교 첨단소재공학부) ,  김유성 (뉴옵틱스 기술연구소) ,  김대일 (울산대학교 첨단소재공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

$SnO_2$ single layer films and 2 nm thick Ni thin film intermediated $AZO/Ni/SnO_2$ trilayer films were deposited on glass substrate at room temperatures by RF and DC magnetron sputtering and then the optical and electrical properties of the films were investigated to enhance o...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 앞서 보고된 Ni 층간금속층을 이용한 GZO/Ni/GZO 적층박막 [8]의 개선된 전기적, 광학적 특성을 기존 SnO2 박막의 전기광학적 효율(Figure of merit) 개선에 적용하기 위해, RF와DC 마그네트론 스퍼터를 이용하여 AZO/Ni/SnO2 적층박막을 증착하였다. 증착 후 전기비저항 측정기와 자외선-가시광선 분광기(UV-Vis.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
TCO는 어떻게 이용되는가? 소량의 Al 또는 Ga이 첨가된 ZnO(AZO, GZO)등의 투명전극용 산화물 박막(Transparent Conductive Oxide; TCO) 소재는 전기광학적으로 높은 가시광투과도와 낮은 전기저항을 동시에 갖기 때문에 다양한 디스플레이 제품과 태양전지 등의 투명전극 소재로 널리 활용되고 있다[1]. 이러한 TCO소재 중에서, SnO2 박막은 미량의 Sn(5-10 at %)이 첨가된 In2O3(ITO) 보다 높은 가격경쟁력과 우수한 화학안정성[2]이 보고되어 다양한 연구가 진행되고 있으나, 실온에서 증착 된 SnO2 박막은 다양한 표시소자(Flexible display)의 전극으로 사용하기에는 비교적 높은 전기저항과 낮은 가시광 투과도를 보이기 때문에 진공조건[3] 또는 질소분위기 열처리기술[4]이 보고되었다.
투명전극용 박막의 거친 표면이 투명전극 활용에 중요한 요소인 이유는? 투명전극용 박막의 거친 표면은 전하이동도 감소에 따른 전기비저항의 증가와 광 흡수율 증가에 따른 가시광 투과도의 감소원인이 되므로 표면거칠기는 투명전극 활용에 중요한 요소이다. Fig.
RF와 DC 마그네트론 스퍼터를 이용해 실온에서 증착한 SnO2 단층과 AZO/Ni/SnO2 적층박막의 전기적, 광학적 물성변화를 고찰힌 결론은? 두께 2nm의 Ni 층간박막을 적용한 AZO/Ni/SnO2 적층박막에서 SnO2 단층박막보다 평탄한 표면 거칠기가 측정되었으며, 전기적 특성 분석에서도 SnO2 박막보다 개선된 5.8×10-3Ωcm의 낮은 비저항을 보였다. 실온조건에서 증착 된 AZO/Ni/SnO2 적층박막이 SnO2 단층박막보다 우수한 전기적, 광학적 완성도를 보임으로써, 경량성과 유연성을 갖는 디스플레이의 투명전극으로 AZO/Ni/SnO2 박막이 유용함을 알 수 있었다.
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참고문헌 (10)

  1. X. Wang and Y. Zhan : Mater. Lett., 188 (2017) 257. 

  2. J. Um, B. Roh, S. Kim and S.E. Kim : Mater. Sci. Semicond. Process. 16 (2013) 1679. 

  3. Y. H. Song, H. J. Moon and D. Kim : J. Korean. Soc. Heat Treat., 29 (2016) 163. 

  4. C.H. Huang, D.Y. Chen and C.Y. Hsu : Ceram. Inter., 38 (2012) 1057. 

  5. J. Wang, X. Zhou, L. Lu, D. Li, P. Mohanty and Y. Wang : Surf. Coat. Technol., 236 (2013) 224. 

  6. S. Yu, W. Zhang, L. Li, D. Xu, H. Dong and Y. Jin : Thin Solid Films, 552 (2014) 150. 

  7. L. Liu, S. Ma, H. Wu, B. Zhu, H. Yang, J. Tang and X. Zhao : Mater. Lett., 149 (2015) 43. 

  8. S. Heo, J. Jeon, T. Gong, H. Moon, S. Kim, B. Cha, J. Kim, U. Jung, S. Park and D. Kim : Ceram. Inter., 41 (2015) 9668. 

  9. G. Haacke : J. Appl. Phys., 47 (1976) 4086. 

  10. J. H. Park, J. H. Chae and D. Kim : J. Alloys Comp., 478 (2009) 330. 

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