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NTIS 바로가기Microelectronic engineering, v.13 no.1/4, 1991년, pp.209 - 212
Jonckheere, R. (Olin Hunt NV, Europark-Noord 17-18, B-2700, St Niklaas, Belgium) , Samarakone, N. , Van den hove, L. , Daraktchiev, I.
AbstractImprovements in the contrast of e-beam exposed resists have been reported via the use of multiple interrupted development techniques. Additional baking is claimed to effect greater improvements in optical lithography. This so called intermediate development bake or (IDB) process, has recentl...
J. Vac. Sc. Technol. B Yoshimura Vol 6 2249 1988 10.1116/1.584091
Proceedings Microcircuit Engineering Samarakone 11 147 1989 10.1016/0167-9317(90)90090-G
N. Samarakone et al, Time Temperature and other Process Variables in the Warm water Intermediate Development Bake.(presented at this conference).
Proceedings Microcircuit Engineering Perera 11 455 1989 10.1016/0167-9317(90)90150-R
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