[논문]Computer-aided simulation of a rotary sputtering magnetron

Fan, Qi Hua; Gracio, J. J.; Zhou, Li Qin

doi:10.1063/1.1715133

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Fan, Qi Hua (Department of Mechanical Engineering, Center for Mechanical Technology and Automation, University of Aveiro, 3810 Aveiro, Portugal) , Gracio, J. J. (Department of Mechanical Engineering, Center for Mechanical Technology and Automation, University of Aveiro, 3810 Aveiro, Portugal) , Zhou, Li Qin (Department of Materials Science and Engineering, The University of Michigan, Ann Arbor, Michigan 48109)

In the past, computer-aided simulation of sputtering magnetron has been applied mainly to planar cathodes with flat target surfaces. In this work, we have simulated the target erosion profile of a cylindrical rotary magnetron by tracing electron trajectories and predicting ionization distribution. The electric potential is prescribed as a radial function. A fourth-order Runge-Kutta method is used to solve the electron movement equations, and a Monte Carlo method is employed to predict electron/Ar collision. It is shown that the simulation can predict the target erosion with reasonable accuracy.

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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