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NTIS 바로가기Microelectronic engineering, v.75 no.2, 2004년, pp.177 - 182
AbstractHydrogen SilsesQuioxane is recently known as a negative tone e-beam resist for Si wafer technology. For III/V semiconductors, as GaAs reported here, the usual TMAH developer does not result in a good quality patterning; in order to overcome that, this paper presents the use of KOH-based deve...
J. Electrochem. Soc. Albrecht 145 11 4019 1998 10.1149/1.1838907
J. Waeterloos, H. Meynen, B. Coenegrachts, T. Gao, J. Grillaert, L. Van den hove, No. 97-ISMIC-222D, in: Proceedings of the 3rd International Dielectrics for ULSI Multilevel interconnection Conference, DUMIC, p310, Santa Clara, CA, Fen (1997) 10-11
J. Vac. Sci. Technol. B Namatsu 16 69 1998 10.1116/1.589837
Microelectron. Eng. Namatsu 41/42 331 1998 10.1016/S0167-9317(98)00076-8
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J. Vac. Sci. Technol. B van Delft 18 3419 2000 10.1116/1.1319682
J. Vas. Sci. Technol. B Word 21 6 L12 2003 10.1116/1.1629711
J. Vas. Sci. Technol. B Henschel 21 5 2018 2003 10.1116/1.1603284
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