최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기Metals and materials international, v.10 no.5, 2004년, pp.417 - 421
Choy, J. H.
초록이 없습니다.
Appl. Phys. Lett. A. Sekiguchi 79 1264 2001 10.1063/1.1399021 A. Sekiguchi, J. Koike, S. Kamiya, M. Saka, and K. Maruyama,Appl. Phys. Lett. 79, 1264 (2001).
J. Appl. Phys. R. J. Gleixner 86 1932 1999 10.1063/1.370990 R. J. Gleixner and W. D. Nix,J. Appl. Phys. 86, 1932 (1999).
J. Phys. D J. R. Lloyd 32 R109 1999 10.1088/0022-3727/32/17/201 J. R. Lloyd,J. Phys. D 32, R109 (1999).
Microelectron Reliab. J. R. Lloyds 39 1595 1999 10.1016/S0026-2714(99)00177-8 J. R. Lloyds, J. Clemens, and B. Snede,Microelectron Reliab. 39, 1595 (1999).
J. Appl. Phys. L. Arnaud 93 192 2003 10.1063/1.1527711 L. Arnaud, T. Berger, and G. Reimbold,J. Appl. Phys. 93, 192 (2003).
J. Phys. D A. Gladkikh 31 1626 1998 10.1088/0022-3727/31/14/003 A. Gladkikh, M. Karpovski, A. Palevski, and Y. S. Kaganovskii,J. Phys. D 31, 1626 (1998).
J. Electron. Mater. N. L. Michael 31 1004 2002 10.1007/s11664-002-0035-5 N. L. Michael, C. U. Kim, Q. T. Jiang, R. A. Augur, and P. Gillespie,J. Electron. Mater. 31, 1004 (2002).
J. Appl. Phys. W. Wang 79 2394 1996 10.1063/1.361166 W. Wang, Z. Suo, and T. H. Hao,J. Appl. Phys. 79, 2394 (1996).
Met. Mater.-Int. J. H. Kim 9 279 2003 10.1007/BF03027047 J. H. Kim, P. R. Cha, D. H. Yeon, and J. K. Yoon,Met. Mater.-Int. 9, 279 (2003).
Acta mater. O. Kraft 45 1599 1997 10.1016/S1359-6454(96)00231-5 O. Kraft and E. Arzt,Acta mater. 45, 1599 (1997).
J. Appl. Phys. M. R. Gungor 85 2233 1999 10.1063/1.369532 M. R. Gungor and D. Maroudas,J. Appl. Phys. 85, 2233 (1999).
Acta metall. W. C. Carter 36 2283 1988 10.1016/0001-6160(88)90328-8 W. C. Carter,Acta metall. 36, 2283 (1988).
J. Appl. Phys. F. A. Nichols 36 1826 1965 10.1063/1.1714360 F. A. Nichols and W. W. Mullins,J. Appl. Phys. 36, 1826 (1965).
Acta metall. F. A. Nichols 16 103 1968 10.1016/0001-6160(68)90079-5 F. A. Nichols,Acta metall. 16, 103 (1968).
J. H. Choy 151 1992 Interface Dynamics and Growth J. H. Choy, S. A. Hackney, and J. K. Lee,Interface Dynamics and Growth (eds., K. S. Liang, M. P. Anderson, R. F. Bruinsma and G. Scoles), p. 151, MRS, Pittsburgh, PA (1992).
IEEE Electron Dev. Lett. J. Tao 16 476 1995 10.1109/55.468272 J. Tao, N. W. Cheung, and C. Hu,IEEE Electron Dev. Lett. 16, 476 (1995).
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.