[논문]Enhancement of the molecular nitrogen dissociation and ionization levels by argon mixture in flue nitrogen plasma

Liu, Junyou; Sun, Fengjiu; Yu, Hanjiang

doi:10.1016/j.cap.2004.08.009

Enhancement of the molecular nitrogen dissociation and ionization levels by argon mixture in flue nitrogen plasma

Current applied physics : the official journal of the Korean Physical Society, v.5 no.6, 2005년, pp.625 - 628

Liu, Junyou (Physics Faculty, College of Sciences, Northeastern University, Shenyang 110004, China) , Sun, Fengjiu (Corresponding author.) , Yu, Hanjiang (Physics Faculty, College of Sciences, Northeastern University, Shenyang 110004, China)

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AbstractIn this work, the nitrogen molecular dissociation and ionization levels in Ar/N2 flue plasma are evaluated as functions of plasma parameters such as Ar mixture quantity and N2 flux in order to obtain the best condition for various applications such as thin film deposition and material surface modification. This plasma is operated at 10kV and the nitrogen dissociation rate is determined by analyzing the optical emission of the nitrogen band. For different operating conditions, the dissociation rate [N] of N2 molecules was enhanced, as the mixture quantity of Ar increased from 0.06m3/h to 0.9m3/h and the max of enhancement factor is 4.3. This factor becomes bigger when the N2 flux becomes bigger. Moreover, the molecular nitrogen ionization density is calculated from the current intensity of the plasma. The ionization density was also enhanced, as the mixture quantity of Ar increased from 0.1m3/h to 1.5m3/h, under three different voltages. The max of enhancement factor of 1.96 is much smaller than the factor of the dissociation rate. These results are discussed in terms of the kinetics of the electrons, nitrogen ions, atoms and molecules.

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

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용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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