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NTIS 바로가기Microelectronic engineering, v.83 no.4/9, 2006년, pp.1128 - 1131
AbstractThis paper describes improvements in high resolution large area e-beam lithography when a thin titanium layer is applied to substrates prior to the application of resist. The technique is particularly useful when there is a requirement to pattern long unsupported nanostructures such as lines...
J. Kitano, M. Honma, Microlithography World, May (2004).
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