$\require{mediawiki-texvc}$
  • 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"
쳇봇 이모티콘
안녕하세요!
ScienceON 챗봇입니다.
궁금한 것은 저에게 물어봐주세요.

논문 상세정보

Abstract

Abstract Porous nC-Si/SiOx photoluminescent nanostructured layer is fabricated by direct, precursor-free microplasma irradiation on Si substrate in air. It is confirmed that the deposited layer has porous and cluster-like structures by scanning electron microscopy (SEM) and profile scanning. Fourier transform infrared transmission (FTIR), X-ray diffraction (XRD) and X-ray photoelectron spectrum (XPS) results indicate the produced layer is actually composed of nanocrystalline silicon (nC-Si) embedded in SiOx matrix. Transmission electron microscopy (TEM) and Raman results show the mean particle size of nC-Si is mainly between 2 and 4nm and the highest crystalline volume fraction reaches 86.9%. The photoluminescence (PL) measurement of nC-Si/SiOx layer exhibited a broad band centered at 1.7–1.9eV, ranging from 1.2–2.4eV, and could be tuned by varying the applied voltage. The synthetical mechanisms are discussed to explain the PL properties of the layers. We propose that the energetic ions bombing induced by high compressed electric field near the Si surface is the main reason for porous nC-Si/SiOx formation. Maskless deposition of the line pattern of nC-Si/SiOx layer was also successfully fabricated. This simple, maskless, vacuum-free and precursor-free technique could be used in various potential optoelectronics and biological applications in the future. Highlights Porous nC-Si/SiOx nanostructured layer is fabricated by microplasma irradiation. The fabricated layer is composed of nC-silicon embedded in SiOx matrix. The mean particle size of nC-Si is between 2–4nm. The fabricated layers exhibited a broad PL band centered at 1.7–1.9eV. The photoluminescent properties could be tuned by varying the applied voltage. Graphical abstract Porous nC-Si/SiOx nanostructured layers with tunable photoluminescent properties are fabricated by direct microplasma irradiation on Si substrate in air. [DISPLAY OMISSION]

  

참고문헌 (0)

  1. 이 논문의 참고문헌 없음

이 논문을 인용한 문헌 (0)

  1. 이 논문을 인용한 문헌 없음

원문보기

원문 PDF 다운로드

  • 원문 PDF 정보가 존재하지 않습니다.

원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다. (원문복사서비스 안내 바로 가기)

상세조회 0건 원문조회 0건

DOI 인용 스타일