[논문]Nanometer-scale etching of CoFeB thin films using pulse-modulated high density plasma

Cho, Doo Hyeon; Lee, Jae Yong; Choi, Jae Sang; Chung, Chee Won

doi:10.1016/j.cap.2018.04.022

Nanometer-scale etching of CoFeB thin films using pulse-modulated high density plasma

Current applied physics : the official journal of the Korean Physical Society, v.18 no.9, 2018년, pp.968 - 974

Cho, Doo Hyeon (Corresponding author.) , Lee, Jae Yong , Choi, Jae Sang , Chung, Chee Won

Abstract ▼ AI-Helper

Pulse-modulated inductively coupled plasma reactive ion etching of nanometer-scale patterned CoFeB thin films was performed in CH4/O-2/Ar gas mixture. As the pulse on-off duty ratio decreased, the etch selectivity of CoFeB/TiN slightly increased and the etch profiles were improved. Moreover, the etch selectivity of the CoFeB films and the etch profiles were improved with the increase in the pulse frequency of the plasma. X-ray photoelectron spectroscopy revealed that during the pulse-modulated etching in the CH4/O-2/Ar gas mixture, some polymeric layers were formed on the CoFeB films, which helped prevent the lateral etching and increased the etch selectivity. Consequently, nanometer-scale etching of CoFeB thin films patterned with TiN hard masks could be achieved using pulsed-modulated plasma in CH4/O-2/Ar gas mixture.

주제어

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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