제안 방법

• 보다 더 최근에는 이러한 단점 을 극복하고자, 전기전도도가 좋은 흑연화 탄소 전구체 (pitch, acenaphene등) 로 사용하여 합성하였다.[23] 본 실험에서는 균일한 실리카 콜로이달 입자를 사용하여 메조 다공성 껍질을 가지는 실리카 입자(SCMS)를 합성하고 그것을 주형틀로 이용 하고, 전기 전도도가 좋은 흑연화 탄소 전구체인 pitch를 사용하여 메조 다공성 껍질 을 가지는 속이 빈 형태의 탄소를 만들었다. 그리고, 보다 뛰어난 전기전도도를 갖게 하기 위하여 2500℃의 고온에서 흑연화 처리를 함으로써 Hollow Core/ Graphited Mesoporous Shell(HCGMS) 탄소입자를 합성하였다.
• [23] 본 실험에서는 균일한 실리카 콜로이달 입자를 사용하여 메조 다공성 껍질을 가지는 실리카 입자(SCMS)를 합성하고 그것을 주형틀로 이용 하고, 전기 전도도가 좋은 흑연화 탄소 전구체인 pitch를 사용하여 메조 다공성 껍질 을 가지는 속이 빈 형태의 탄소를 만들었다. 그리고, 보다 뛰어난 전기전도도를 갖게 하기 위하여 2500℃의 고온에서 흑연화 처리를 함으로써 Hollow Core/ Graphited Mesoporous Shell(HCGMS) 탄소입자를 합성하였다. 합성된 HCGMS 탄소입자는 SEM과 TEM, HV-TEM을 통해 특성 및 구조를 분석하였다.
• 그리고, 보다 뛰어난 전기전도도를 갖게 하기 위하여 2500℃의 고온에서 흑연화 처리를 함으로써 Hollow Core/ Graphited Mesoporous Shell(HCGMS) 탄소입자를 합성하였다. 합성된 HCGMS 탄소입자는 SEM과 TEM, HV-TEM을 통해 특성 및 구조를 분석하였다.
• 이들의 메조다공성 실리카 껍질 사이에 형성된 빈 메조 세공 안으로 탄소 전구체로써 pitch를 주입하여 고분자화 반응과 탄화 과정을 거친 후, 계속해서 사용된 실리카 주형을 HF 또는 NaOH 용액으로 제거하면 중심의 실리 카 제거로 인한 매크로 또는 메조 중심세공과 실리카 껍질의 실리카 벽의 제거로 인한 메조 세공을 가지는 HCMS 탄소 지지체를 합성할 수 있다. 합성된 결과물을 아르 곤 기류하에서 2500 ℃ 고온에서 30분정도 흑연화 과정을 거친 후 Hollow Core/ Graphited Mesoporous Shell (HCGMS) 탄소입자를 성공적으로 합성하였다.