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문제 정의
- 이러한 응력분포의 불균일성은 CMP 장치의 헤드 설계에 크게 의존하며, 이를 해결하기 위해서 연마 헤드의 가압 부를 나누어 압력을 웨이퍼로 전사하거나 리테이너 링 (retai ner ring)의 압력을 조정하는 방식을 사용하고 있다. 본 논문에서는 리테이너 링의 압력 변화가 패드와 웨이퍼 사이 계면에서의 응력분포에 미치는 영향에 관하여 유한요소분석 (finite-element analysis; FEA)을 통하여 알아보고자 한다.
- 본 연구에서는 산화막 CMP에 있어서 리테이너 링의 압력 변화가 패드와 웨이퍼 사이 응력분포에 미치는 영향에 관하여 유한요소 분석을 통하여 해석하였다. 그 결과, 실제 연마결과와 응력분포의 해석결과는 다소 차이는 보이지만, 매우 유사한 경향을 보이고 있으며, 이를 통하여 산화악 CMP에 있어 응력의 분포는 연아율 프로파일을 결정하는 중요한 요소임을 확인할 수 있었다.
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