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제안 방법
- Dynamic contact angle meter(Surface and Electro-Optics사)를 사용하여 접촉각을 측정하였다. 적가한 물의 양은 10成이었으며 적가 10초 후에 접촉각을 측정하였다.
- 먼저 1034A CS계는 1단계 반응으로 1034A : IPA : TMOS : MTMS 비를 70 : 40 : 30 : 100과 50 : 40 : 50 : 100으로 하여 두 가지 샘플을 제조하여 6, 12, 24, 48시간 반응시켜 물성 분석을 하였다. HSA CS계는 HSA 100에 대해서 1단계로 TMOS를 25와 50으로 첨가하고 2단계에서 순차적으로 MTMS를 75, 50으로 첨가하여 실란양을 100으로 조절하여 두 가지 샘플을 제조하였다. 다시 다른 샘플로서 HSA 100에 대해서 1단계로 MTMS를 25, 50첨가하고 2단계에 순차적으로 TMOS를 75, 50씩 첨가하여 1단계, 2단계 반응 동안 실란 함량비와 실란 첨가순서 변화에 대해 물성 분석을 .
- HSA계에 대해서는 2단계로 분리하여 TMOS, MTMS 실란을 첨가하는데 실란 첨가순서와 실란 함량비, 반응시간을 달리하여 졸을 합성하였다. 합성된 졸은 slide glass에 함침 코팅한 후 300℃에서 경화시킨 도막의 특성들을 조사하였다.
- HSA CS계는 HSA 100에 대해서 1단계로 TMOS를 25와 50으로 첨가하고 2단계에서 순차적으로 MTMS를 75, 50으로 첨가하여 실란양을 100으로 조절하여 두 가지 샘플을 제조하였다. 다시 다른 샘플로서 HSA 100에 대해서 1단계로 MTMS를 25, 50첨가하고 2단계에 순차적으로 TMOS를 75, 50씩 첨가하여 1단계, 2단계 반응 동안 실란 함량비와 실란 첨가순서 변화에 대해 물성 분석을 .하였다.
- 단독 CS계로서 1034A계와 HSA계로 나누어 실험을 행하였다. .
- .먼저 1034A CS계는 1단계 반응으로 1034A : IPA : TMOS : MTMS 비를 70 : 40 : 30 : 100과 50 : 40 : 50 : 100으로 하여 두 가지 샘플을 제조하여 6, 12, 24, 48시간 반응시켜 물성 분석을 하였다. HSA CS계는 HSA 100에 대해서 1단계로 TMOS를 25와 50으로 첨가하고 2단계에서 순차적으로 MTMS를 75, 50으로 첨가하여 실란양을 100으로 조절하여 두 가지 샘플을 제조하였다.
- 하였다. 반응은 20t 온도조건에서 300rpm 교반속도로 진행되어졌고 1034A CS계에 대해서는 pH 2.8로 액성을 조절하였고 HSA 계에 대해서는 AA를 첨가하여 pH를 3.8로 조절하여 실험하였다.
- 본 논문에서는 단독 CS계로서 1034A계와 HSA 계로 나누어 실험을 행하였는데 1034A CS계는 MTMS 함량을 동일시하여 CS와 TMOS 함량비와 반응시간을 변화시키면서 코팅도막의 물성 분석을 하였고 HSA CS계는 HSA 함량을 동일시하고 실험단계를 2단계로 나누어 TMOS와 MTMS를 첨가하는 순서를 변화시키면서 함량비를 다르게 조절하여 물성분석하였다.
- 산성 CS 1034A, HSA와 TMOS, MTMS 간의 졸 겔 반응조건이 코팅도막의 특성에 미치는 영향을 조사하기 위하여 1034A CS계에 대해서는 1단계로실란들을 첨가하고 동일한 MTMS 에 대해 CS/TMOS의 함량비, 반응시간을 달리하여 졸을 합성하였다. HSA계에 대해서는 2단계로 분리하여 TMOS, MTMS 실란을 첨가하는데 실란 첨가순서와 실란 함량비, 반응시간을 달리하여 졸을 합성하였다.
- HSA계에 대해서는 2단계로 분리하여 TMOS, MTMS 실란을 첨가하는데 실란 첨가순서와 실란 함량비, 반응시간을 달리하여 졸을 합성하였다. 합성된 졸은 slide glass에 함침 코팅한 후 300℃에서 경화시킨 도막의 특성들을 조사하였다.
대상 데이터
- 산성 CS 로서 날코사의 Nalco 1034A(고형분: 34%, particle size: 20nm, pH: 28)와 (주)유니캠사의 Ludox HSA(고형분: 30%, particle size: 12nm, pH: 42)를 이용하였다. 실란은 TMOS(Tc)아iiba, TSL 8114)와 MTMS(T。아dba, TSL 8113)를 합성에 사용하였고 용매로는 isopropyl alcohoKIPA, Oriental)다.
- 42)를 이용하였다. 실란은 TMOS(Tc)아iiba, TSL 8114)와 MTMS(T。아dba, TSL 8113)를 합성에 사용하였고 용매로는 isopropyl alcohoKIPA, Oriental)다. 액성 조절용 촉매로는 acetic acid(AA, 동양화학)를 사용하였고, 졸을 합성하는데 이용된 장치는 온도제어와 교반속도 조절이 가능한 반응조를 사용하였다.
- 실란은 TMOS(Tc)아iiba, TSL 8114)와 MTMS(T。아dba, TSL 8113)를 합성에 사용하였고 용매로는 isopropyl alcohoKIPA, Oriental)다. 액성 조절용 촉매로는 acetic acid(AA, 동양화학)를 사용하였고, 졸을 합성하는데 이용된 장치는 온도제어와 교반속도 조절이 가능한 반응조를 사용하였다.
데이터처리
- 표면의 평균조도 (Ra)는 alpha-step 500 surface profiler를 사용하여 scan length 2,00011m, vertical range/resolution : 300um/25A, scan time : lOsec, scan speed : 20gm/s, sampling rate : 5아Iz의 조건으로 코팅시편에 대하여 측정되었다. Ra 값은 다섯 번 측정한 값을 평균하여 얻었다.
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