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제안 방법
- 증착 모재로서 봉상 형태의 STD 61강을 사용하였고, 두께 5mm, 지름 30mm의 디스크로 제작하였으며 재료의 균질화를 위하여 퀜칭(1,020℃, 30min), 템퍼링 (200℃, 300℃, 400℃, 500℃, 600℃, for 1 hr) 의 열처리를 시행 하였다. 박막층의 조건에 따른 특성을 관찰하기 위해 각각 타겟이 위치한 RF generating power를 조절하면서 코팅을 행하여 코팅막의 표면 특성을 조사하였다. 코팅 표면의 표면특성을 관찰하기 위해 OM (optical microscopy), FE-SEM (field emission scanning electron microscopy), EDS (energy dispersive spectroscopy), AFM (atomic force microscopy), XRD(X-ray diffraction), XRR (X-ray reflectometer), 긋기 (scratch) 및 나노경도 (nano-indentation) 시험을 시행하였다.
- 본 연구에서는 TiN과 ZrN의 우수한 표면특성을 이용하여 마그네트론 스퍼터링 방법 (magnetron sputtering method) 으로 TiN 및 ZrN 박막을 공구강 (STD 61) 표면에 TiN/ZrN 복합층을 형성하였다. 증착 모재로서 봉상 형태의 STD 61강을 사용하였고, 두께 5mm, 지름 30mm의 디스크로 제작하였으며 재료의 균질화를 위하여 퀜칭(1,020℃, 30min), 템퍼링 (200℃, 300℃, 400℃, 500℃, 600℃, for 1 hr) 의 열처리를 시행 하였다.
- 본 연구에서는 TiN과 ZrN의 우수한 표면특성을 이용하여 마그네트론 스퍼터링 방법 (magnetron sputtering method) 으로 TiN 및 ZrN 박막을 공구강 (STD 61) 표면에 TiN/ZrN 복합층을 형성하였다. 증착 모재로서 봉상 형태의 STD 61강을 사용하였고, 두께 5mm, 지름 30mm의 디스크로 제작하였으며 재료의 균질화를 위하여 퀜칭(1,020℃, 30min), 템퍼링 (200℃, 300℃, 400℃, 500℃, 600℃, for 1 hr) 의 열처리를 시행 하였다. 박막층의 조건에 따른 특성을 관찰하기 위해 각각 타겟이 위치한 RF generating power를 조절하면서 코팅을 행하여 코팅막의 표면 특성을 조사하였다.
- 박막층의 조건에 따른 특성을 관찰하기 위해 각각 타겟이 위치한 RF generating power를 조절하면서 코팅을 행하여 코팅막의 표면 특성을 조사하였다. 코팅 표면의 표면특성을 관찰하기 위해 OM (optical microscopy), FE-SEM (field emission scanning electron microscopy), EDS (energy dispersive spectroscopy), AFM (atomic force microscopy), XRD(X-ray diffraction), XRR (X-ray reflectometer), 긋기 (scratch) 및 나노경도 (nano-indentation) 시험을 시행하였다.
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