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초록

디스플레이 공정용 ICP (Inductively Coupled Plasma) 장비의 공정영역별 전자기적 특성을 파악하기위해 9개의 안테나가 적용된 3차원 구조에서 Ar 플라스마를 사용하여 시뮬레이션 하였다. 안테나에 인가된 전류, 공정압력, power등 공정 조건별로 안테나로부터 유도된 전기장과 자기장을 구하고, 이들로부터 poynting's theorem을 적용하여 플라스마의 resistance와 reactance를 계산하였다. 이로부터 공정조건별 플라스마의 전기적 특성을 파악 할 수 있었다.

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