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ALD 공정에서의 플라즈마 응용
Application of Plasma Processes in Atomic Layer Deposition 원문보기

한국표면공학회 2015년도 춘계학술대회 논문집, 2015 May 07, 2015년, pp.82 - 82  

이우재 (부산대학교 재료공학부) ,  윤혜원 (부산대학교 재료공학부) ,  이동권 (부산대학교 재료공학부) ,  윤은영 (부산대학교 재료공학부) ,  이하진 (부산대학교 재료공학부) ,  권세훈 (부산대학교 재료공학부)

초록
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원자층 단위의 정밀 제어가 가능한 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition)은 반도체, 디스플레이, 에너지, MEMS 등 다양한 분야에서 점차 그 응용 범위를 확대하고 있다. 응용분야의 확대와 함께, 물질적 측면에서는 산화물 위주의 적용에서 나아가 금속층, 질화물 등 다양한 물질 개발로 이루어져 왔으며, 이는 precursor의 개발과 함께 공정적 측면에서 plasms를 이용한 plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD)의 개발과 함께 이루어져 왔다. 본 발표에서는 ALD 공정에서의 플라즈마의 활용에 대하여 논의하고, ALD 공정에서의 플라즈마 적용에 따른 영향을 살펴보았다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 플라즈마는 ALD의 물질적, 물성적 측면에서의 문제점들을 해결하고 개선하기 위하여 활용되어 왔으며, 본 발표에서는 ALD 공정에서의 플라즈마의 활용에 따른 특성 개선의 예를 소개하고, PEALD 공정의 나아갈 방향에 대해 소개하고자 한다.
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